[发明专利]曝光装置、图像形成单元和图像形成装置在审

专利信息
申请号: 201611182452.1 申请日: 2016-12-20
公开(公告)号: CN106990687A 公开(公告)日: 2017-07-28
发明(设计)人: 兼藤大志 申请(专利权)人: 日本冲信息株式会社
主分类号: G03G15/04 分类号: G03G15/04;G03G15/043
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司72001 代理人: 周学斌,郑冀之
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 曝光 装置 图像 形成 单元
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种使用电子照片方式形成图像的图像形成单元、具备该图像形成单元的图像形成装置和用于它们的曝光装置。

背景技术

在使用电子照片方式形成图像的电子打印机、传真机等各种图像形成装置中,使用具有LED(light emitting diode)元件等发光元件与透镜阵列的曝光装置(例如参照专利文献1)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开2010-221510号公报。

发明内容

在具备这样的曝光装置的图像形成装置中,起因于构成透镜阵列的多个柱透镜的光学特性的偏差,有可能在形成的图像上产生条纹(由在副扫描方向上延伸的条纹产生的主扫描方向上的浓度不均)等质量上的问题。

因此,期望提供一种能够形成更加良好的图像的图像形成单元、图像形成装置和适合搭载于它们的曝光装置。

作为本发明的一种实施方式的曝光装置,使图像载体曝光。该曝光装置具有:发光元件阵列,包含排列在第一方向且各自发出光的多个发光元件;以及透镜阵列,在与第一方向正交的第二方向上,与发光元件阵列对向配置,分别使由多个发光元件各自发出的多份光成像(聚光),满足下列式(1)和式(2)。其中,L0是透镜阵列的焦距(从由透镜阵列成像的光的第一方向的光量分布算出的对比度为最大的距离),L1是透镜阵列与发光元件阵列的距离,L2是透镜阵列与图像载体的距离。

175μm≤L0-L1≤250μm ……(1)

175μm≤L0-L2≤250μm ……(2)

作为本发明的一种实施方式的图像形成单元和图像形成装置分别具备上述本发明的一种实施方式的曝光装置。

附图说明

图1是表示本发明的一种实施方式的曝光装置的整体结构例子的立体图。

图2是表示图1所示的曝光装置的侧面图。

图3是表示图1所示的柱透镜的放大分解立体图。

图4是表示本发明的一种实施方式的图像形成装置的整体结构例子的示意图。

图5是表示图4所示的在图像形成装置中,图像形成过程的示意特性图。

图6是表示图4所示的在图像形成装置中,当图像载体的感光度特性产生变动时,对显影粉浓度的影响的示意特性图。

图7A是表示作为参考例子的曝光装置的多个发光元件的曝光强度分布的示意说明图。

图7B是表示图1所示的曝光装置的多个发光元件的曝光强度分布的示意说明图。

图8是表示实验例1的曝光装置的曝光强度与位置和光图大小的关系的特性图。

图9是表示实验例2的曝光装置的曝光强度与位置和光图大小的关系的特性图。

图10是表示实验例3的曝光装置的曝光强度与位置和光图大小的关系的特性图。

图11是表示实验例4的曝光装置的曝光强度与位置和光图大小的关系的特性图。

图12是表示实验例5的曝光装置的曝光强度与位置和光图大小的关系的特性图。

图13是表示实验例6的曝光装置的曝光强度与位置和光图大小的关系的特性图。

图14是表示实验例7的曝光装置的曝光强度与位置和光图大小的关系的特性图。

图15是表示实验例8的曝光装置的曝光强度与位置和光图大小的关系的特性图。

图16是表示实验例9的曝光装置的曝光强度与位置和光图大小的关系的特性图。

图17是表示实验例10的曝光装置的曝光强度与位置和光图大小的关系的特性图。

符号的说明

1光学头(曝光装置)

2透镜阵列

2A,2B端面

21 柱透镜

22,23侧板

24 外周面

25 透镜部分

26 光吸收层

3LED(发光二极管)阵列

31 LED元件

4安装基板

5支撑部件

7控制部

100图像形成装置

101介质

102介质供给盒

103介质输送辊

104,105搬送对辊

106Y,106M,106C,106K图像形成部(处理单元)

107定影器

108,109排出对辊

110壳体

111堆垛机

40 显影粉盒

41 光导鼓(图像载体)

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日本冲信息株式会社,未经日本冲信息株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201611182452.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top