[发明专利]激光处理装备中用于减少斑纹的设备和方法有效

专利信息
申请号: 201611155297.4 申请日: 2012-09-26
公开(公告)号: CN106825916B 公开(公告)日: 2019-03-01
发明(设计)人: 斯蒂芬·莫法特 申请(专利权)人: 应用材料公司
主分类号: G02B27/48 分类号: G02B27/48;B23K26/064
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 徐金国;赵静
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 这里所描述的实施方式提供用于以均匀的激光能量处理半导体基板的设备和方法。激光脉冲或光束被导引至空间均化器,该空间均化器可为多个透镜,这些透镜沿着平面布置,该平面垂直于激光能量的光学路径,一个实例是微透镜阵列。该空间上均匀的能量由空间均化器产生,该空间上均匀的能量接着被导引至折射介质,该折射介质具有多个厚度。所述多个厚度的每一个厚度与其他厚度相差至少激光能量的相干长度。
搜索关键词: 激光 处理 装备 用于 减少 斑纹 设备 方法
【主权项】:
1.一种设备,所述设备包含:空间解相关器,所述空间解相关器包含多个透镜,所述透镜具有从第一表面到第二表面的光学路径,并且所述透镜被定位以在所述第二表面处产生合成图像,其中所述多个透镜中的每个透镜接收入射能量的一部分并将所述一部分投射至所述合成图像上;以及时间解相关器,所述时间解相关器包含多个折射窗格,所述折射窗格具有从第三表面到第四表面的光学路径,其中:所述第三表面被光学耦接到所述多个透镜的所述第二表面,并且所述多个折射窗格包括不同的折射率或者所述多个折射窗格的所述光学路径具有不同的长度。
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