[发明专利]一种砷化镓基异质结遂穿场效应晶体管在审
申请号: | 201611076133.2 | 申请日: | 2016-11-29 |
公开(公告)号: | CN106601817A | 公开(公告)日: | 2017-04-26 |
发明(设计)人: | 刘丽蓉;王勇;丁超 | 申请(专利权)人: | 东莞市广信知识产权服务有限公司;东莞华南设计创新院 |
主分类号: | H01L29/78 | 分类号: | H01L29/78;H01L29/06;H01L21/336 |
代理公司: | 广东莞信律师事务所44332 | 代理人: | 曾秋梅 |
地址: | 523000 广东省东莞市松山湖高新*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公布了一种砷化镓基异质结遂穿场效应晶体管结构,该器件结构包括一N型掺杂的砷化镓半导体层;一本征的砷化镓半导体层;一P型锑化镓半导体层;一在N型掺杂的砷化镓半导体层上形成的漏电极;一在P型锑化镓半导体材料上形成的源电极;一在本征砷化镓半导体层上生长的氧化铝介质层;一在氧化铝介质层上形成的栅金属电极。 | ||
搜索关键词: | 一种 砷化镓基异质结遂穿 场效应 晶体管 | ||
【主权项】:
一种硅基异质结遂穿场效应晶体管结构,具体包括:一N型掺杂的砷化镓半导体层;一10纳米厚的本征的砷化镓半导体层;一P型锑化镓半导体层;一在本征砷化镓半导体层上生长的氧化铝介质层;一在氧化铝介质层上形成的栅金属电极;一在P型锑化镓半导体材料上形成的源电极;一在N型掺杂的砷化镓半导体层上形成的漏电极。
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