[发明专利]一种提高硅片切割厚度均匀性的方法在审
申请号: | 201611021044.8 | 申请日: | 2016-11-21 |
公开(公告)号: | CN106313352A | 公开(公告)日: | 2017-01-11 |
发明(设计)人: | 及军;颜玉峰;王辉;李永峰;李峰起;赵飞 | 申请(专利权)人: | 宁晋松宫电子材料有限公司 |
主分类号: | B28D5/04 | 分类号: | B28D5/04 |
代理公司: | 河北东尚律师事务所13124 | 代理人: | 王文庆 |
地址: | 055550 河北*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | 本发明公开了一种提高硅片切割厚度均匀性的方法,包括:(1)导轮涂覆和开槽:导轮涂覆时,在导轮涂层反涂树脂胶中添加碳化硅粉,并开V型槽;(2)粘棒:用AB胶将晶托、树脂板和硅棒粘接在一起;(3)切割:将粘好的硅棒放到线切机中进行切割,切割前采用斜线网方式布网;切割过程中,将添加了硅粉分散剂的水溶液引流至切割面;(4)切割完成,脱胶清洗硅片。本发明简单有效,可以明显提高硅片切割厚度的均匀性。 | ||
搜索关键词: | 一种 提高 硅片 切割 厚度 均匀 方法 | ||
【主权项】:
一种提高硅片切割厚度均匀性的方法,其特征在于:所述方法包括以下步骤:(1)导轮涂覆和开槽:导轮涂覆时,在导轮涂层反涂树脂胶中添加碳化硅粉,并开V型槽;(2)粘棒:用AB胶将晶托、树脂板和硅棒粘接在一起;(3)切割:将粘好的硅棒放到线切机中进行切割,切割前采用斜线网方式布网;切割过程中,将添加了硅粉分散剂的水溶液引流至切割面;(4)切割完成,脱胶清洗硅片。
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