[发明专利]一种基于雾化颗粒的水溶解微纳加工装置

摘要

本发明公开了一种基于雾化颗粒的水溶解微纳加工装置，包括加压夹持单元、供雾扩散单元和风淋加工单元；所述的风淋加工单元位于加压夹持单元与供雾扩散单元之间。本发明采用漏斗形收集构件与加工介质扩散腔相配合的方式使得在传输过程中形成的大尺度液滴得到了有效的回收，避免其对晶体材料加工区域的影响，同时改善了雾化颗粒的均匀性和流动性。本发明的带孔磨抛板实现了雾化颗粒与晶体工件加工表面的有效接触，在加工运动轨迹的配合下有效提高了晶体工作加工表面水溶解的均匀性。本发明的微孔采用“倒置漏斗”结构，使得雾化颗粒在流经带孔磨抛板时，在重力的作用下逆流至加工介质扩散腔，进而保证了加工区域雾化颗粒的均匀性及稳定性。

主权项

一种基于雾化颗粒的水溶解微纳加工装置，其特征在于：包括加压夹持单元、供雾扩散单元和风淋加工单元；所述的加压夹持单元位于供雾扩散单元上方，风淋加工单元位于加压夹持单元与供雾扩散单元之间；所述的加压夹持单元包括球头组件(5)、销(4)、夹持盘(3)和螺旋夹紧机构(2)；所述的球头组件(5)顶部与机床运动主轴固定连接，将机床的动力及载荷传递给加压夹持单元；球头组件(5)底部与夹持盘(3)顶部通过销(4)连接；夹持盘(3)底部固定连接螺旋夹紧机构(2)，螺旋夹紧机构(2)有多组，沿周向均布在夹持盘(3)底部，用于夹紧晶体工件(1)；所述的供雾扩散单元包括底板(6)、支撑梁(8)、加强筋组件(7)、密封圈(9)、支撑板(10)、雾化颗粒入口(13)、超声雾化发生装置(14)、加工介质扩散腔(12)、漏斗形收集构件(11)和可移动工作台(15)；所述的可移动工作台(15)位于供雾扩散单元的底部，与上方底板(6)通过螺纹固定连接；底板(6)上表面四周边缘位置与四根长度相等的支撑梁(8)固定连接；加强筋组件(7)环绕安装在四根支撑梁(8)的中上部，用于提高供雾扩散单元的刚度及稳定性；四根支撑梁(8)的顶部与支撑板(10)下表面固定连接；支撑板(10)上表面开有圆环形凹槽，圆环形凹槽内放置密封圈(9)；支撑板(10)中心部位开有圆形通孔，圆形通孔与漏斗形收集构件(11)的上方开口固定连接；漏斗形收集构件(11)底部与雾化颗粒入口(13)固定连接；雾化颗粒入口(13)下方设置超声雾化发生装置(14)，超声雾化发生装置(14)通过气动管路与雾化颗粒入口(13)连接；所述的风淋加工单元包括带孔磨抛板(16)、风淋装置(17)、固定管卡(18)和螺纹连接组件(19)；所述的带孔磨抛板(16)的边缘部位均匀分布有四个通孔，通过四个通孔及螺纹连接组件(19)与供雾扩散单元中的支撑板(10)固定连接；带孔磨抛板(16)表面分布有“倒置漏斗”结构的微孔(20)；风淋装置(17)位于带孔磨抛板(16)上表面靠近一侧边缘的位置，通过分布在其两端的两组固定管卡(18)固定在带孔磨抛板(16)上。