[发明专利]产生气体分析装置的校正方法以及产生气体分析装置有效
| 申请号： | 201611016224.7 | 申请日： | 2016-11-18 |
| 公开（公告）号： | CN107064396B | 公开（公告）日： | 2020-09-22 |
| 发明（设计）人： | 秋山秀之;丸冈干太郎 | 申请（专利权）人： | 日本株式会社日立高新技术科学 |
| 主分类号： | G01N30/72 | 分类号： | G01N30/72;G01N33/00;H01J49/00;H01J49/26 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 李婷;傅永霄 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及能将检测灵敏度的仪器误差和时刻误差变动等简便地补正并以高精度对测定对象进行定量的产生气体分析装置的校正方法。在具备：加热试料而产生气体成分的加热部、将气体成分离子化而生成离子的离子源、对离子进行质量分析而检测气体成分的质量分析计的产生气体分析装置的校正方法中，使用作为测定对象而包含气体成分的标准试料，（1）校正关于标准试料的气体成分获得的质谱的谱位置，（2）从标准试料的气体成分的色谱的面积S与基准面积Ss而计算测定实际的试料的气体成分的色谱的面积时的灵敏度补正系数Cs=Ss/S，（3）从色谱的给出最大峰值的时间t与基准时间ts计算对测定实际的试料的气体成分时的加热部内的试料的加热速度进行补正的加热补正系数H=t/ts。 | ||
| 搜索关键词： | 产生 气体 分析 装置 校正 方法 以及 | ||
【主权项】：
暂无信息
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