[发明专利]传感器、光刻设备以及器件制造方法有效
| 申请号： | 201610987008.0 | 申请日： | 2013-03-19 |
| 公开（公告）号： | CN106873312B | 公开（公告）日： | 2019-09-06 |
| 发明（设计）人： | T·劳伦特;J·H·W·雅各布斯;H·考克;Y·范德维基维尔;J·范德瓦尔;B·克拿伦;R·J·伍德;J·S·C·维斯特尔拉肯;H·范德里基德特;E·库伊克尔;W·M·J·赫肯斯-墨腾斯;Y·B·Y·特莱特 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王静 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明提供了一种用于浸没光刻设备中的传感器、光刻设备和使用浸没光刻设备的器件制造方法。所述传感器包括构件，在传感器的使用过程中所述构件接触供给至与投影系统的最终元件相邻的空间的浸没液体；变换器，配置成将刺激转换为电信号；温度调节装置，配置成使用由冷却剂供给装置所供给的热传递介质进行所述变换器的温度调节；和控制器，配置成控制所述温度调节装置以主动地控制所述变换器的温度。 | ||
| 搜索关键词： | 传感器 光刻 设备 以及 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于浸没光刻设备中的传感器系统，所述传感器系统包括：构件，在传感器系统的使用过程中所述构件接触供给至与投影系统的元件相邻的空间的浸没液体；变换器，安装在由高热传导率的材料制成的支撑构件上并配置成将刺激转换为电信号；温度调节装置，配置成热调节所述变换器，其中，所述变换器安装成邻近所述温度调节装置，所述支撑构件与所述温度调节装置分离开一间隙，同时所述支撑构件还提供在所述变换器和所述温度调节装置之间的热路径，其中所述温度调节装置和所述变换器以非接触的方式热耦合。
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