[发明专利]一种晶片切割产生弯曲片的检测方法在审
申请号: | 201610983045.4 | 申请日: | 2016-11-09 |
公开(公告)号: | CN106596237A | 公开(公告)日: | 2017-04-26 |
发明(设计)人: | 付刘军 | 申请(专利权)人: | 石长海 |
主分类号: | G01N1/34 | 分类号: | G01N1/34;G01N3/06;G01N3/20 |
代理公司: | 北京中济纬天专利代理有限公司11429 | 代理人: | 杨乐 |
地址: | 454991*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | 一种晶片切割产生弯曲片的检测方法,涉及晶片检测技术领域,它包括以下步骤制作标准块,标准块高度与晶片高度相同,标准块的长度大于晶片的长度,为方便使用可适当制作较长的标准块,标准块表面采用砂轮加工;将切割下的待检测晶片清洗干净;标准块和晶片置于影像测量仪的工作台面上,待检测晶片贴紧标准块的基准面;调整影响测量仪的镜头高度使晶片上部棱边的成像清晰;使用影像测量仪的专用工具测量晶片与基准面之间的间隙,准确地定量判定;本发明工艺简单、易于操作、测量准确、质量稳定、产品一致性好、适合大规模生产。 | ||
搜索关键词: | 一种 晶片 切割 产生 弯曲 检测 方法 | ||
【主权项】:
一种晶片切割产生弯曲片的检测方法,其特征在于它包括以下步骤:①、制作标准块:标准块高度与晶片高度相同,标准块的长度大于晶片的长度,为方便使用可适当制作较长的标准块,标准块表面采用砂轮加工;②、将切割下的待检测晶片清洗干净;③、标准块和晶片置于影像测量仪的工作台面上,待检测晶片贴紧标准块的基准面;④、调整影响测量仪的镜头高度使晶片上部棱边的成像清晰;⑤、使用影像测量仪的专用工具测量晶片与基准面之间的间隙。
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