[发明专利]一种可被X射线激发的长余辉材料及其应用有效

专利信息
申请号: 201610978260.5 申请日: 2016-11-08
公开(公告)号: CN106544028B 公开(公告)日: 2019-04-23
发明(设计)人: 杨艳民;张伟;魏军;杨敬伟 申请(专利权)人: 河北大学
主分类号: C09K11/85 分类号: C09K11/85;C09K11/64;C09K11/62
代理公司: 石家庄国域专利商标事务所有限公司 13112 代理人: 白利霞;苏艳肃
地址: 071002 河北*** 国省代码: 河北;13
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摘要: 发明公开了一种可被X射线激发的长余辉材料,其化学通式为:MxN(1‑a‑b)Zy:aRe,bLn;其中M为Li、Na、K、Rb或Cs中的至少一种;N为Y、Gd、Al、In、Sc、Ga或Lu中的至少一种;中的至少一种;Z为F、Cl、Br或I中的至少一种;Re为Pr、Ce中至少一种;Ln为Mn、Cr、La、Nd、Sm、Eu、Gd、Tn、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Yo或Lu中的至少一种;0.001≤a≤0.1,0≤b≤0.05;x为1或3,y为4或6;当x=1时,y=4;当x=3时,y=6。本发明提供的材料能在X射线激发下发光且余辉衰减时间较长,能够被很好的应用于生物荧光标记成像,为现有荧光成像应用材料提供更多的选择,其作为新型的分子探针材料在生物医学成像、诊断和治疗中具有广泛的应用前景。
搜索关键词: 一种 射线 激发 余辉 材料 及其 应用
【主权项】:
1.一种材料在生物成像中的应用,其特征在于,其材料的化学通式为:MxN(1‑a‑b)Zy: aRe,bLn;其中M为Li、Na、K、Rb或Cs中的至少一种;N为Y、Gd、Al、In、Ga或Lu中的至少一种;Z为F、Cl、Br或I中的至少一种;Re为Pr、Ce中至少一种,其中Pr是必须的;Ln为Mn;0.001≤a≤0.1,0≤b≤0.05;x为1或3,y为4或6;当x=1时,y=4;当x=3时,y=6;所述材料在X射线激发下发射长余辉。
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