[发明专利]一种硫化镉敏化硅纳米线复合材料及制备和应用在审
申请号: | 201610971582.7 | 申请日: | 2016-11-07 |
公开(公告)号: | CN106374011A | 公开(公告)日: | 2017-02-01 |
发明(设计)人: | 何丹农;王艳丽;林琳;张春明;金彩虹 | 申请(专利权)人: | 上海纳米技术及应用国家工程研究中心有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;B01J27/04;B82Y40/00 |
代理公司: | 上海东方易知识产权事务所31121 | 代理人: | 唐莉莎 |
地址: | 200241 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种硫化镉敏化硅纳米线复合材料及制备和应用,包括硅纳米线的制备和硫化镉敏化硅纳米线复合材料的制备。硫化镉敏化硅纳米线复合材料的制备运用连续离子层吸附反应(SILAR)的方法,将长有硅纳米线的硅片,首先浸渍于Cd(NO3)2的乙醇溶液2 min,然后被浸渍于乙醇中1 min并在空气中干燥,之后被浸渍于Na2S的甲醇溶液2 min,最后被浸渍于甲醇中1 min并且在空气中干燥,其中硝酸铬和硫化钠的摩尔比为Cd(NO3)2Na2S=11,此为一个循环,重复循环5~10次,最后在60℃烘箱中干燥即得到硫化镉敏化硅纳米线复合材料。本发明将金属援助化学刻蚀法与连续离子层吸附反应(SILAR)法制备后沉积半导体量子点的方法相结合,所制备的硫化镉敏化硅纳米线复合材料可广泛应用于光电、催化等领域。 | ||
搜索关键词: | 一种 硫化 镉敏化硅 纳米 复合材料 制备 应用 | ||
【主权项】:
一种硫化镉敏化硅纳米线复合材料的制备方法,其特征在于,该方法的具体步骤为:(1)硅纳米线的制备:首先,银粒子沉积,将硅片裁成合适的大小尺寸,然后依此经乙醇、体积比3:1的浓硫酸/过氧化氢、蒸馏水洗涤,在常温下浸入含有硝酸银的40%氢氟酸溶液中,使两者摩尔比为AgNO3:HF=1:20~50;然后,刻蚀,将硅片从银液中取出,然后用蒸馏水进行洗涤,再浸入氢氟酸/过氧化氢溶液中浸泡0.5~8 h;最后,取出硅片,用蒸馏水清洗数次,用以去残留的氢氟酸,之后浸入硝酸中1 h,用以去除银粒子,再依次用蒸馏水、无水乙醇洗涤后,室温下进行干燥,即可以得到硅纳米线;(2)硫化镉敏化硅纳米线复合材料的制备:硫化镉敏化硅纳米线复合材料的制备运用连续离子层吸附反应(SILAR)的方法,将长有硅纳米线的硅片,首先浸渍于Cd(NO3)2的乙醇溶液2 min,然后被浸渍于乙醇中1 min并在空气中干燥,之后被浸渍于Na2S的甲醇溶液2 min,最后被浸渍于甲醇中1 min并且在空气中干燥,其中硝酸铬和硫化钠的摩尔比为Cd(NO3)2:Na2S=1:1,此为一个循环,重复循环5~10次,最后在60℃烘箱中干燥即得到硫化镉敏化硅纳米线复合材料。
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H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
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H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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