[发明专利]金属氢化物离子源的离子过滤装置、方法及中子发生器在审
申请号: | 201610958462.3 | 申请日: | 2016-11-04 |
公开(公告)号: | CN106507576A | 公开(公告)日: | 2017-03-15 |
发明(设计)人: | 蓝朝晖;龙继东;郑乐;王韬;杨振;董攀 | 申请(专利权)人: | 中国工程物理研究院流体物理研究所 |
主分类号: | H05H3/06 | 分类号: | H05H3/06 |
代理公司: | 成都行之专利代理事务所(普通合伙)51220 | 代理人: | 何筱茂 |
地址: | 621000*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明公开了一种金属氢化物离子源的离子过滤装置、方法及中子发生器。离子过滤装置,包括相互平行的第一栅网、第二栅网,第一栅网上开设有第一引出孔,第二栅网上开设有第二引出孔;第一引出孔和第二引出孔在H平面上的投影不重合,H平面为任意一个平行于第一栅网的平面。本发明通过设置引出孔相互错开的双层栅网直接进行离子的过滤,利用真空弧等离子体金属离子和D离子在荷质比和动能的差别,有效过滤掉重离子,提高D离子的引出比例,D离子的比例可以得到大幅提升,从39%提升到80%。本发明结构简单、光路设计简便、成本低。 | ||
搜索关键词: | 金属 氢化物 离子源 离子 过滤 装置 方法 中子 发生器 | ||
【主权项】:
金属氢化物离子源的离子过滤装置,包括第一栅网(1),所述第一栅网(1)上开设有第一引出孔(11),其特征在于,还包括第二栅网(7),所述第二栅网(7)与第一栅网(1)平行,且第二栅网(7)上开设有第二引出孔(71);第一引出孔(11)和第二引出孔(71)在H平面上的投影不重合,所述H平面为任意一个平行于第一栅网(1)的平面。
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