[发明专利]一种基于激光诱导光谱击穿技术检测真空装置真空度的系统及方法有效

专利信息
申请号: 201610955767.9 申请日: 2016-10-27
公开(公告)号: CN106290264B 公开(公告)日: 2019-06-11
发明(设计)人: 杨泽锋;李兴文;吴坚;贾申利;魏文赋 申请(专利权)人: 西安交通大学
主分类号: G01N21/63 分类号: G01N21/63;G01L21/26
代理公司: 西安通大专利代理有限责任公司 61200 代理人: 齐书田
地址: 710049 陕*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种基于激光诱导光谱击穿技术检测真空装置真空度的系统及方法,该方法利用激光聚焦烧蚀真空腔室内靶材料产生等离子体,通过光学镜头聚焦,光谱仪分光,像增强器呈像测量等离子体光谱。经过多次测量不同气压环境下等离子体光谱,分析找到等离子光谱和气压的关系。利用该关系,通过测量等离子体光谱即可获知真空腔室气压。
搜索关键词: 一种 基于 激光 诱导 光谱 击穿 技术 检测 真空 装置 系统 方法
【主权项】:
1.一种基于激光诱导光谱击穿技术检测真空装置真空度的系统,其特征在于,包括纳秒激光器(1)和真空腔体(4),真空腔体(4)中设置有金属靶(5),金属靶(5)的正前方设置有能够将纳秒激光器(1)发出的激光光束聚焦在金属靶(5)上的透镜(6),真空腔体(4)上设有用于通过激光光束的第一观察窗口(7)和用于通过激光烧蚀金属靶(5)产生的等离子体自发光的第二观察窗口(8),第二观察窗口(8)的正下方设置有用于测量等离子体自发光光谱的光谱测量装置,真空腔体(4)上还设有用于控制真空度的出气口(11),还包括用于延时触发纳秒激光器(1)和光谱测量装置的数字延时发生器(2),所述金属靶(5)为黄铜靶或其他金属材料、真空腔室(4)内部的某一金属器件或真空腔室(4)内壁,所述透镜(6)的焦距小于第一观察窗口(7)和金属靶(5)之间的间距。
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