[发明专利]甲砜霉素分子印迹电化学传感器及其制备方法与应用

摘要

本发明公开了一种甲砜霉素分子印迹电化学传感器及其制备方法与应用，采用水热一步法制备多孔石墨烯‑二硫化钼纳米花状复合物，并将其滴涂到L型玻碳电极表面。利用氨基化多壁碳纳米管及多孔Pt‑Pd纳米颗粒分散进一步提高电极的印迹表面积及加强修饰界面的稳定性，从而获得三维多孔的印迹基底。以甲砜霉素为模板分子，邻二苯胺为功能单体，循环伏安法制备印迹膜；以抗坏血酸为光电化学探针，构建检测甲砜霉素的电化学传感器。该传感器对甲砜霉素具有良好的响应，其线性范围为1.0×10^‑9‑3.5×10^‑6mol L^‑1，检测下限为5.0×10^‑9mol L^‑1。传感器可用于肉类样品及饲料样品甲砜霉素检测。

主权项

1.一种甲砜霉素分子印迹电化学传感器的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤1、制备多孔Pt‑Pd纳米颗粒；步骤2、制备多孔石墨烯‑二硫化钼纳米花状复合物；步骤3、用多孔石墨烯‑二硫化钼纳米花状复合物、氨基化多壁碳纳米管及多孔Pt‑Pd纳米颗粒修饰L型玻碳电极；步骤4、将修饰后的L型玻碳电极以邻苯二胺为功能单体和甲砜霉素为模板分子，循环伏安制备分子印迹修饰电极；再洗脱除去聚合膜中的模板分子，得到甲砜霉素分子印迹膜修饰电极；其中，步骤2中制备多孔石墨烯‑二硫化钼纳米花状复合物，具体为：步骤2.1、多孔氧化石墨烯的制备：在磁力搅拌下，将KMnO₄加入氧化石墨烯分散液中，使其反应12h，其中，KMnO₄与氧化石墨烯分散液的质量比为8：1‑15:1；然后，将HCl和H₂O₂加入到上述反应溶液中，继续反应3h，其中氧化石墨烯分散液与HCl与H₂O₂的体积比均为2:1‑4:1；反应结束后，将所得产物离心分离、水洗，置于真空干燥器在55‑60℃下干燥；制备得到多孔氧化石墨烯分散液；步骤2.2、多孔石墨烯‑二硫化钼纳米花复合物的制备：将(NH₄)₆Mo₇O₂·4H₂O和硫脲溶解到多孔氧化石墨烯分散液中，再将上述混合液转移至反应釜中，210‑230℃下反应12h；其中，(NH₄)₆Mo₇O₂·4H₂O与多孔氧化石墨烯质量比为4:1‑1:1；硫脲与多孔氧化石墨烯质量比为50:1‑30:1；反应结束后，将所得产物离心分离、水洗，置于真空干燥器在55‑65℃下干燥，制备得到多孔石墨烯‑二硫化钼纳米花状复合物；HCl与H₂O₂的质量百分浓度分别为36％和30％。