[发明专利]一种等比立体全息投影轮廓特征的描述方法

摘要

本发明公开了一种等比立体全息投影轮廓特征的描述方法，涉及全息光场技术领域，包括以下步骤步骤1选择基准点为投影P(x,z)的中心(x0,z0)；步骤2计算每一点的角度，将0～2π等分为n份，则每份范围为2π/n；步骤3统计所有点的角度，计算其所属的角度范围，若θi在[2π/n×k≤θi≤2π/n×(k‑1)]，则该区间的像素数增加1；步骤4这样就可以得到各区间的像素数，生成0～2π范围内的像素分布直方图。本发明的方法，投影变换来标准化模型，为模型的归一化开阔了思路，提高了运算速度，且本方法具有很强的鲁棒性，使用区域特征直方图作为投影的特征描述子，并给定了三投影的经验权重。

主权项

一种等比立体全息投影轮廓特征的描述方法，采用区域特征直方图可以很方便地得到模型在XOZ坐标平面上最小投影的整体特征，统计各方向上的像素的不同分布，得到一组量化为M句柄的数据,生成0～2π范围内的像素分布直方图，其特征在于，包括以下步骤：步骤1：选择基准点为投影P(x,z)的中心(x0,z0)，x0=1AXOZΣx,y0=1AXOZΣy,AXOZ=ΣP(x,y);]]>步骤2：计算每一点的角度，将0～2π等分为n份，则每份范围为2π/n；步骤3：统计所有点的角度，计算其所属的角度范围，若θi在[2π/n×k≤θi≤2π/n×(k‑1)]，则该区间的像素数增加1；步骤4：这样就可以得到各区间的像素数，生成0～2π范围内的像素分布直方图。