[发明专利]测试结构及测试单元

摘要

本发明提供一种测试结构及测试单元，该测试结构包括：上层金属层，所述上层金属层包括沿垂直方向依次布置的上层金属层、中层金属层和下层金属层，上层金属层和中层金属层均包括一组梳状金属线，每个梳状金属线包括多个并行排列的梳齿金属线，上层金属层和中层金属层通过通孔电性连接，下层金属层包括多个并行排列的第五金属线，且所述多个第五金属线彼此电性连接。该测试结构既可以测试同层之间的电压击穿性能，也可以测试垂直方向上上下层之间的电压击穿性能，并且可以探测到由于通孔与通孔之间以及通孔与金属层之间的突出/偏移问题。该测试单元具有类似的优点。

主权项

一种测试结构，用于测试电压击穿性能，其特征在于，包括：上层金属层，所述上层金属层包括第一梳状金属线和第二梳状金属线，所述第一梳状金属线包括多个并行排列的第一梳齿金属线，所述第二梳状金属线包括多个并行排列的第二梳齿金属线，且所述第一梳齿金属线和第二梳齿金属线交错相嵌布置；中层金属层，所述中层金属层包括第三梳状金属线和第四梳状金属线，所述第三梳状金属线包括多个并行排列的第三梳齿金属线，所述第四梳状金属线包括多个并行排列的第四梳齿金属线，并且所述第三梳齿金属线和第四梳齿金属线交错相嵌布置；下层金属层，所述下层金属层包括多个并行排列的第五金属线，且所述多个第五金属线彼此电性连接，其中，所述上层金属层、中层金属层和下层金属层沿垂直方向依次布置，所述第一梳状金属线和第三梳状金属线通过通孔电性连接，所述第二梳状金属线和第四梳状金属线通过通孔电性连接。