[发明专利]一种在材料表面均匀掺杂金属离子的方法及其制品和应用有效
| 申请号： | 201610938294.1 | 申请日： | 2016-10-25 |
| 公开（公告）号： | CN107978755B | 公开（公告）日： | 2020-04-24 |
| 发明（设计）人： | 曹安民;刘晓婵;万立骏 | 申请（专利权）人： | 中国科学院化学研究所 |
| 主分类号： | H01M4/38 | 分类号： | H01M4/38;H01M4/1391;H01M10/0525 |
| 代理公司： | 北京知元同创知识产权代理事务所(普通合伙) 11535 | 代理人： | 刘元霞;牛艳玲 |
| 地址： | 100190 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种在材料表面均匀掺杂金属离子的方法及其制品和应用。所述方法主要是通过金属离子在材料表面(如正极材料等)进行纳米层厚度的均匀沉积，并经过特殊的热处理，实现金属离子在基底材料表面特定厚度范围内的向内渗透和掺杂，并在基底材料表面获得纳米层厚度的定量掺杂的表面层。所述方法制备得到的正极材料能够有效实现表面的钝化，降低副反应的程度，实现材料稳定性的提升；同时，金属离子只在表面1～30nm范围内掺杂，材料自身的本体结构并未受到影响，仍能够保持原先的离子传输特性，能有效地克服了传统包覆过程对材料电化学性能的不利影响，使其在锂离子电池领域有着很高的实用性应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 材料 表面 均匀 掺杂 金属 离子 方法 及其 制品 应用 | ||
【主权项】：
一种在材料表面均匀掺杂金属离子的制备方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：1)首先采用沉淀‑热渗透反应，将材料、金属离子的前驱体和沉淀剂分散到溶剂中，加热搅拌，在材料表面构筑金属纳米沉积层，获得中间产物；2)然后将步骤1)中制备得到的中间产物经热处理，金属离子在所述材料表面一定厚度范围内的向内渗透和掺杂，在材料表面获得纳米层厚度的金属掺杂层。
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