[发明专利]一种低热阻、抗辐照的纳米多层薄膜材料及其制备方法

摘要

本发明公布了一种低热阻、抗辐照的纳米多层薄膜材料，它是以金属钨纳米薄膜和单层石墨烯交叉层叠的多层复合结构，制备方法为：将金属钨纳米薄膜沉积在二氧化硅基底上，然后转移单层石墨烯到所述金属钨纳米薄膜的表面，之后交替沉积钨纳米薄膜和转移单层石墨烯，得到低热阻、抗辐照的纳米多层薄膜材料。针对目前双金属的多层膜结构会使材料的热学性能大大降低，本发明提供了一种兼顾优秀的导热性能和抗辐照性能材料，其为以金属钨纳米薄膜和单层石墨烯交叉层叠的多层复合结构，不仅可以减小由于多层膜结构界面存在导致的热传导性能的下降，而且可以使材料保持优秀的抗辐照能力。

主权项

1.一种低热阻、抗辐照的纳米多层薄膜材料，其特征在于它是以金属钨纳米薄膜和单层石墨烯交叉层叠的多层复合结构；所述金属钨纳米薄膜的层数为N层，单层石墨烯的层数为N‑1层，其中N为大于等于2的整数；所述的低热阻、抗辐照的纳米多层薄膜材料的上下表层均为金属钨纳米薄膜。