[发明专利]用于制造量子点显示器件的方法以及对应的量子点显示器件有效
申请号: | 201610886181.1 | 申请日: | 2016-10-11 |
公开(公告)号: | CN106226943B | 公开(公告)日: | 2021-08-31 |
发明(设计)人: | 邢伟强;王永茂;邓金阳;毛振华;游洪超;罗明 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G02F1/1333 | 分类号: | G02F1/1333;G02F1/13357 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 景军平;陈岚 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及量子点显示的技术领域,并且公开了一种用于制造量子点显示器件的方法。该方法包括:提供彼此相对的阵列基板和对合基板;将含有量子点材料的配向溶液印刷到阵列基板面向对合基板的一侧上;移除印刷到阵列基板面向对合基板的一侧上的配向溶液中的溶剂;在移除溶剂之后,加热阵列基板;以及在阵列基板背离对合基板的一侧上提供背光模组。本发明还公开了对应的量子点显示器件。借助于这样的制造方法,极大地提升了所制得的量子点显示器件的显示质量,并且降低了相关的制造成本和工艺难度。 | ||
搜索关键词: | 用于 制造 量子 显示 器件 方法 以及 对应 | ||
【主权项】:
一种用于制造量子点显示器件的方法,其特征在于,所述方法包括:提供彼此相对的阵列基板和对合基板;将含有量子点材料的配向溶液印刷到所述阵列基板面向所述对合基板的一侧上;移除印刷到所述阵列基板面向所述对合基板的一侧上的所述配向溶液中的溶剂;在移除所述溶剂之后,加热所述阵列基板;以及在所述阵列基板背离所述对合基板的一侧上提供背光源。
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