[发明专利]一种环境障涂层的制备方法有效
申请号: | 201610868004.0 | 申请日: | 2016-09-30 |
公开(公告)号: | CN106435443B | 公开(公告)日: | 2018-11-13 |
发明(设计)人: | 张小锋;刘敏;周克崧;邓春明;邓畅光;宋进兵;毛杰;张吉阜;杨焜;徐丽萍 | 申请(专利权)人: | 广东省新材料研究所 |
主分类号: | C23C4/134 | 分类号: | C23C4/134;C23C4/04;C23C4/11 |
代理公司: | 广东世纪专利事务所有限公司 44216 | 代理人: | 千知化 |
地址: | 510651 广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 一种环境障涂层的制备方法,其步骤是采用等离子喷涂‑物理沉积技术,分别以粒径15~45μm的Si粉末,粒径15~40μm团聚的莫来石粉末和粒径10~40μm团聚的Yb2SiO5粉末为原料,依次在硅基复合材料上制备Si涂层,在Si涂层上制备莫来石涂层和在莫来石涂层上制备Yb2SiO5涂层,喷涂过程中,硅基复合材料的温度控制在900~1100℃,制得所述硅基复合材料环境障涂层。本发明提供一种环境障涂层的制备方法,该环境障涂层较传统制备技术可减少涂层中裂纹的数量、可降低Si涂层的氧化以及避免莫来石涂层中晶粒的非晶化现象。 | ||
搜索关键词: | 一种 环境 涂层 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种环境障涂层的制备方法,其特征是将硅基复合材料依次用汽油、丙酮和酒精进行超声波除污清洗;将清洗后的硅基复合材料安装在样品台上,放置在真空罐中,抽真空至0.5mbar,再回填氩气至40mbar,再把真空罐抽真空至1.5mbar;采用等离子喷涂‑物理沉积技术,分别以粒径15~45μm的Si粉末,粒径15~40μm团聚的莫来石粉末和粒径10~40μm团聚的Yb2SiO5粉末为原料,依次在硅基复合材料上制备Si涂层,在Si涂层上制备莫来石涂层和在莫来石涂层上制备Yb2SiO5涂层,喷涂过程中,硅基复合材料的温度控制在900~1100℃,制得所述硅基复合材料环境障涂层;所述制备Si涂层的参数为:等离子喷涂净功率为40~50kW,等离子气体中氩气为90~120NSPM,等离子气体中氢气为5~10NSPM,送粉量为15~20g/min,喷涂距离30~50mm;所述制备莫来石涂层的参数为:等离子喷涂净功率为60~70kW,等离子气体中氩气为60~80NSPM,等离子气体中氦气为40~60NSPM,送粉量为18~25g/min,喷涂距离950~1050mm;所述制备Yb2SiO5涂层的参数为:等离子喷涂净功率为40~50kW,等离子气体中氩气为80~120NSPM,等离子气体中氢气为10~20NSPM,送粉量为5~10g/min,喷涂距离1000~1050mm。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法,例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理,例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
C23C4-18 .后处理
C23C4-14 ..用于长形材料的镀覆
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