[发明专利]投射装置有效
| 申请号： | 201610866188.7 | 申请日： | 2016-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN106560743B | 公开（公告）日： | 2019-11-19 |
| 发明（设计）人： | 松本充由;清水真弥;水野贵夫 | 申请（专利权）人： | 船井电机株式会社 |
| 主分类号： | G03B21/20 | 分类号： | G03B21/20 |
| 代理公司： | 11205 北京同立钧成知识产权代理有限公司 | 代理人： | 杨贝贝;臧建明<国际申请>=<国际公布> |
| 地址： | 日本大阪府大*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种投射装置，能够抑制或防止因光源的发光延迟而产生的问题。投射装置包括：多个光源，射出激光；扫描部，扫描所述激光；控制部，控制所述激光的输出。其中所述控制部进行以下控制：在包含第1扫描范围和第2扫描范围的扫描范围，使在所述第1扫描范围的所述输出成为第1光量，在所述第2扫描范围的所述输出成为第2光量，所述第2光量大于所述第1光量。 | ||
| 搜索关键词： | 投射 装置 | ||
【主权项】：
1.一种投射装置，其特征在于，包括：/n多个光源，射出激光,所述多个光源具有因发光延迟所导致的光量下降分布；/n扫描部，通过所述激光进行扫描；/n控制部，控制所述激光的输出,并根据所述光量下降分布来投射所述激光，/n其中所述控制部进行以下控制：在包含第1扫描范围和第2扫描范围的扫描范围进行往复扫描，使在所述第1扫描范围的所述输出成为第1光量，在所述第2扫描范围的所述输出成为第2光量，所述第2光量大于所述第1光量，/n其中所述激光在所述第2扫描范围的扫描时间为第2时间区间，所述第2光量与所述第1光量之间的差值在所述第2时间区间的时间积分量等于所述多个光源在发光延迟期间所造成的光量下降累积量。/n
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