[发明专利]高温环境下材料低周疲劳应变幅的光学测量方法在审
申请号: | 201610849094.9 | 申请日: | 2016-09-24 |
公开(公告)号: | CN106485267A | 公开(公告)日: | 2017-03-08 |
发明(设计)人: | 张东升;张水强;吴荣;王福红 | 申请(专利权)人: | 上海大学 |
主分类号: | G06K9/62 | 分类号: | G06K9/62;G06N3/00 |
代理公司: | 上海上大专利事务所(普通合伙)31205 | 代理人: | 何文欣 |
地址: | 200444*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明涉及一种测量高温环境下材料低周疲劳应变幅的光学测量方法,通过两步整像素搜索算法,即利用PSO算法获得最佳初始估计值附近的点,并结合BBGDS算法快速获得最佳初始估计值。然后利用IC‑GN亚像素搜素算法快速获得目标点在变形图中的亚像素位置。该算法与传统DIC相比,大大减少了计算所消耗的时间,能够稳定的跟踪到目标点,跟踪速度可以达到100帧/秒,满足低周疲劳试验过程中对应变的实时监测。 | ||
搜索关键词: | 高温 环境 材料 疲劳 应变 光学 测量方法 | ||
【主权项】:
一种高温环境下材料低周疲劳应变幅的光学测量方法,其特征在于操作步骤如下:1)利用微粒群优化算法PSO在采集到的数字图像中进行初步整像素搜索,获得最佳初始估计值附近的点,并将该点记为d0;2)将PSO算法中获得的点d0的坐标值作为起始搜索位置,通过基于块的梯度下降搜索法BBGDS快速获得最终的初始估计位置d1;3)以d1为初始估计值,利用反向合成高斯牛顿算法IC‑GN进行亚像素迭代,快速定位到目标点在变形图中的亚像素位置;4)重复利用步骤1)至步骤3)的算法并结合多核并行计算技术,对多个点进行实时跟踪,同时计算各点的位移值;并计算相应的应变值。
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