[发明专利]研磨垫、研磨装置及制造研磨垫的方法在审
| 申请号： | 201610848478.9 | 申请日： | 2016-09-26 |
| 公开（公告）号： | CN107866732A | 公开（公告）日： | 2018-04-03 |
| 发明（设计）人： | 冯崇智;姚伊蓬;洪永璋;宋品贤;陈晋纬;吴文杰 | 申请（专利权）人： | 三芳化学工业股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/26 | 分类号： | B24B37/26;B24B37/22;B24B37/24;B24B37/04;B24D11/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所11105 | 代理人： | 秦剑 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明关于一种高涵养量研磨垫，其包含研磨层，该研磨层包含高分子弹性主体及复数个二氧化钛纳米线，其中各二氧化钛纳米线间彼此独立且均匀任意分散于该高分子弹性主体内。本发明亦提供一种研磨装置及制造研磨垫的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨 装置 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种研磨垫，其包含：研磨层，该研磨层包含高分子弹性主体；及复数个二氧化钛纳米线，各二氧化钛纳米线间彼此独立且均匀任意分散于该高分子弹性主体内。
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