[发明专利]研磨垫、研磨装置及制造研磨垫的方法在审
| 申请号： | 201610848478.9 | 申请日： | 2016-09-26 |
| 公开（公告）号： | CN107866732A | 公开（公告）日： | 2018-04-03 |
| 发明（设计）人： | 冯崇智;姚伊蓬;洪永璋;宋品贤;陈晋纬;吴文杰 | 申请（专利权）人： | 三芳化学工业股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/26 | 分类号： | B24B37/26;B24B37/22;B24B37/24;B24B37/04;B24D11/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所11105 | 代理人： | 秦剑 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 研磨 装置 制造 方法 | ||
1.一种研磨垫，其包含：
研磨层，该研磨层包含
高分子弹性主体；及
复数个二氧化钛纳米线，各二氧化钛纳米线间彼此独立且均匀任意分散于该高分子弹性主体内。
2.根据权利要求1的研磨垫，其中该研磨层还包含复数个孔洞分散于该高分子弹性主体内。
3.根据权利要求1的研磨垫，其中该研磨层还包含无纺布。
4.根据权利要求1的研磨垫，其中该二氧化钛纳米线的长度为约0.1nm至约100nm。
5.根据权利要求1的研磨垫，其中该二氧化钛纳米线的直径为约0.1nm至约50nm。
6.根据权利要求1的研磨垫，其中该二氧化钛纳米线于该研磨层中的比例为0.1％至20％以重量计。
7.根据权利要求1的研磨垫，其中部分该二氧化钛纳米线显露于该研磨层的一表面。
8.根据权利要求2的研磨垫，其中部分该二氧化钛纳米线位于这些孔洞内。
9.一种研磨装置，其包含：
研磨盘；
基材；
根据权利要求1至8任何一项的研磨垫，其粘附于该研磨盘上，并用以研磨该基材；及
研磨浆液，其接触该基材，以进行研磨。
10.一种制造根据权利要求1至8任何一项研磨垫的方法，其包含：
(a)提供高分子弹性体组合物；
(b)提供复数个二氧化钛纳米线；
(c)将步骤(b)中这些二氧化钛纳米线均匀任意分散于步骤(a)中的该高分子弹性体组合物中；及
(d)固化该高分子弹性体组合物以形成该高分子弹性主体以提供该研磨层。
11.根据权利要求10的方法，其中步骤(d)前还包含将步骤(c)的任意分散有这些二氧化钛纳米线的该高分子弹性体组合物涂布于载体的步骤，其中该载体为离型材料。
12.根据权利要求10的方法，其中步骤(d)前还包含将步骤(c)的任意分散有这些二氧化钛纳米线的该高分子弹性体组合物充满模具的模穴的步骤。
13.根据权利要求10的方法，其中步骤(d)前还包含将步骤(c)的任意分散有这些二氧化钛纳米线的该高分子弹性体材料含浸无纺布的步骤。
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