[发明专利]清洁制剂有效
| 申请号： | 201610847724.9 | 申请日： | 2016-09-23 |
| 公开（公告）号： | CN106547178A | 公开（公告）日： | 2017-03-29 |
| 发明（设计）人： | 稻冈诚二 | 申请（专利权）人： | 气体产品与化学公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42;C11D7/32;C11D7/26;C11D7/10;C11D7/50 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所11256 | 代理人： | 吴亦华,徐志明 |
| 地址： | 美国宾夕*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种可用于从半导体衬底去除残留物的组合物，所述组合物包含有效清洁量的约55至80重量％的水；约0.3至约5.0重量％的EDTA；约10.0至约30.0重量％的胺化合物，其中所述胺化合物选自仲胺、叔胺和其混合物；约0.1至约5.0重量％的多官能有机酸；约0.01至约8.0重量％的氟离子源；约0至约60重量％的水混溶性的有机溶剂；和约0至约15重量％的腐蚀抑制剂。 | ||
| 搜索关键词： | 清洁 制剂 | ||
【主权项】：
一种用于从衬底，优选半导体衬底去除残留物的组合物，所述组合物包含有效清洁量的：约55至80重量％的水；约0.3至约5.0重量％的EDTA；约10.0至约30.0重量％的胺化合物，其中所述胺化合物选自仲胺、叔胺和其混合物；约0.1至约5.0重量％的多官能有机酸；约0.01至约8.0重量％的氟离子源；约0至约60重量％的水混溶性的有机溶剂；和约0至约15重量％的腐蚀抑制剂。
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