[发明专利]靶面杂光光照度测量装置及测量方法有效
| 申请号： | 201610834633.1 | 申请日： | 2016-09-20 |
| 公开（公告）号： | CN107843335B | 公开（公告）日： | 2019-09-20 |
| 发明（设计）人： | 郭帮辉 | 申请（专利权）人： | 海信集团有限公司 |
| 主分类号： | G01J1/00 | 分类号： | G01J1/00;G01J1/04 |
| 代理公司： | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人： | 邢雪红;乔彬 |
| 地址： | 266071 山*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种靶面杂光光照度测量装置及测量方法。靶面杂光光照度测量装置包括漫反射板、投影镜头、测量仪及控制器。漫反射板包括框型的基板及漫反射层，基板用于覆盖光阀靶面的非作用区，漫反射层设于基板上。漫反射层的反射特性满足余弦辐射体的要求，投射在漫反射板的杂光经漫反射层漫反射成反射光束。反射光束经投影镜头投影形成成像区。测量仪用于测量非作用区的杂光投影到成像区上的光照度。控制器根据成像区的面积及光照度，计算得到靶面杂光光照度。通过上述靶面杂光光照度测量装置及测量方法能够实现对DMD等光阀进行靶面杂光光照度的测量。 | ||
| 搜索关键词： | 杂光 靶面 光照度测量 漫反射层 光照度 测量 漫反射板 成像区 基板 反射光束 控制器 测量仪 非作用 光阀 投影镜头投影 余弦辐射体 反射特性 投影镜头 漫反射 框型 投射 投影 覆盖 | ||
【主权项】：
1.一种靶面杂光光照度测量装置，其特征在于，包括：漫反射板，包括框型的基板及漫反射层，所述基板用于覆盖光阀靶面的非作用区，所述漫反射层设于所述基板上，所述漫反射层的反射特性满足余弦辐射体的要求，照射在所述漫反射板的杂光经所述漫反射层漫反射成反射光束；投影镜头，设于所述漫反射板背向所述光阀的一侧，所述投影镜头的视场能够覆盖所述光阀的靶面，所述反射光束经所述投影镜头投影形成成像区；测量仪，设于所述投影镜头背向所述漫反射板的一侧，且用于测量所述非作用区的杂光投影到成像区上的光照度；控制器，根据所述成像区的面积及光照度，根据：![]()
计算得到靶面杂光光照度，其中，EA2是光阀的靶面杂光光照度；SA2是漫反射层的面积；EB2是成像区的光照度；SB2是成像区的面积；ρ是漫反射层的反射率；τ是投影镜头的透过率；U是投影镜头的物方半孔径角。
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