[发明专利]基于偏振光相位调制的结构光生成装置与方法有效
申请号: | 201610831268.9 | 申请日: | 2016-09-19 |
公开(公告)号: | CN106291962B | 公开(公告)日: | 2018-07-17 |
发明(设计)人: | 龚薇;斯科;郑瑶 | 申请(专利权)人: | 浙江大学 |
主分类号: | G02B27/28 | 分类号: | G02B27/28;G02B21/06 |
代理公司: | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人: | 林超 |
地址: | 310058 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开了一种基于偏振光相位调制的结构光生成装置与方法。激光器发出线偏振光的光束入射到半波片上,经过半波片偏振方向旋转角度,再到电光相位调制器中分解成两个偏振分量,被电光相位调制器调制产生相位差,接着经扩束镜扩束后入射到左、右偏振分光镜拼接后形成的端面中间让调制后的光束透过,然后两路光束入射到偏振片上仅透过沿其光轴方向的分量形成一路光束,最终聚焦在聚焦镜的焦点处发生干涉。本发明能应用到荧光显微成像上,能获得更好的荧光信号信噪比和更强的组织内部大深度成像能力。 | ||
搜索关键词: | 偏振光 电光相位调制器 光生成装置 光束入射 相位调制 半波片 调制 荧光显微成像 偏振分光镜 方向旋转 光束透过 光轴方向 偏振分量 深度成像 线偏振光 荧光信号 激光器 焦点处 聚焦镜 扩束镜 偏振片 相位差 信噪比 扩束 两路 偏振 入射 拼接 聚焦 分解 干涉 应用 | ||
【主权项】:
1.一种基于偏振光相位调制的结构光生成装置,其特征在于:沿光线的传输轨迹,包括激光器(1)和布置在激光器(1)前方沿发出光束依次布置的半波片(2)、电光相位调制器(3)、扩束镜(4)、沿水平方向并排拼接的两个偏振分光镜(PBS)(5、6)、偏振片(7)和聚焦镜(8);激光器(1)发出线偏振光的光束入射到半波片(2)上,经过半波片(2)偏振方向旋转角度,再入射到电光相位调制器(3)(EOM)中被分解成水平方向和竖直方向的两个偏振分量,两个偏振分量被电光相位调制器(3)调制产生相位差,接着包含各自偏振分量的两路光束一起经扩束镜(4)扩束后入射到左偏振分光镜(5)和右偏振分光镜(6)拼接后形成的端面中间让调制后的光束透过,然后两路光束入射到偏振片(7)上仅透过沿其光轴方向的分量形成一路光束,最终聚焦在聚焦镜(8)的焦点处发生干涉;所述的激光器(1)发出的线偏振光的振动方向为水平方向;所述的半波片(2)垂直于激光器(1)发出的光束,半波片(2)的光轴与水平方向呈22.5°夹角;所述的电光相位调制器(3)的光轴沿竖直方向,且垂直于激光器(1)发出的光束;所述的两个偏振分光镜(PBS)(5、6)分别为左偏振分光镜(5)和右偏振分光镜(6),左偏振分光镜(5)和右偏振分光镜(6)紧贴并排,光束入射到左偏振分光镜(5)和右偏振分光镜(6)中间,左偏振分光镜(5)的分光面与水平面成45°且与光束方向呈45°角,右偏振分光镜(6)的分光面与水平面垂直且与光束方向呈45°角;所述的偏振片(7)垂直于激光器(1)发出的光束,偏振片(7)的透光轴与水平方向呈45°夹角。
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