[发明专利]一种双面光刻工件台

摘要

本发明公开了一种双面光刻工件台，包括基座、下掩模XYθ向运动台、下掩模调平机构、上掩模升降机构；基座为整个工件台的安装基准，由底板、支撑立柱与上板组成；下掩模XYθ向运动台与底板连接，通过导轨滑体、交叉滚柱轴环等结构实现下掩模相对上掩模在X、Y、θ方向上的运动；下掩模调平机构与下掩模XYθ向运动台连接，半球、球碗与弹簧机构实现上掩模在下降过程中与下掩模的调平，气缸锁紧和球碗真空吸附机构实现对调平机构的锁紧；上掩模升降机构由电机带动精密滚珠丝杠实现驱动，开口型直线滚珠导套和精密光轴作为导向，实现上掩模在放片时的上升运动和对准曝光时的下降运动。本发明具有生产效率高、操作方便、对准精度和曝光分辨率较高的优点。

主权项

1.一种双面光刻工件台，其特征在于：包括基座(100)，下掩模XYθ向运动台(200)，下掩模调平机构(300)和上掩模升降机构(400)，所述基座(100)是整个工件台安装的基准；所述下掩模XYθ向运动台(200)布置在基座(100)的底板(101)上方，实现下掩模在对准时相对上掩模在X、Y、θ方向运动；所述下掩模调平机构(300)布置在下掩模XYθ向运动台(200)上方，实现上掩模在下降过程中与下掩模的调平；所述上掩模升降机构(400)布置在基座(100)上，实现上掩模在放片时的上升运动和对准曝光时的下降运动；所述下掩模XYθ向运动台(200)由V型导轨(201)、下层滑体(202)、上层滑体(203)、导轨保持架(204)、钢球(205)、导轨弹簧挂钩(206)、导轨跟踪弹簧(207)、X手轮架(208)、X手轮(209)、Y手轮架(210)、Y手轮(211)、交叉滚柱轴环(212)、外圈压环(213)、内圈上压环(214)、内圈下压环(215)、弹簧橫挂钩(216)、弹簧竖挂钩(217)、θ向弹簧(218)、θ向手轮架支板(219)、θ向手轮架(220)与θ向手轮(221)组成，所述钢球(205)放置在导轨保持架(204)中间，导轨保持架(204)内填充润滑脂，钢球(205)与导轨保持架(204)布置在V型导轨(201)与下层滑体(202)之间，两个导轨弹簧挂钩(206)分别布置在一侧V型导轨(201)与滑体(202)上，两者用导轨跟踪弹簧(207)连接，实现下层滑体(202)在V型导轨(201)上运动的跟踪与复位；V型导轨(201)与上层滑体(203)之间的结构与V型导轨(201)与下层滑体(202)相同，上层的V型导轨(201)安装在下层滑体(202)上，正交布置形成XY向运动台；所述X手轮(209)放置在X手轮架(208)内，X手轮架(208)固定在底板(101)上，X手轮(209)顶头与下层滑体(202)接触，实现XYθ向运动台在X方向运动的调节；所述Y手轮(211)放置在Y手轮架(210)内，Y手轮架(210)固定在底板(101)上，Y手轮(211)顶头与上层滑体(203)接触，实现XYθ向运动台在Y方向运动的调节；所述交叉滚柱轴环(212)放置在上层滑体(203)中间圆孔内，外圈压环(213)与交叉滚柱轴环(212)外圈接触，并固定于上层滑体(203)上，内圈上压环(214)与内圈下压环(215)分别与交叉滚柱轴环(212)内圈的上表面与下表面接触，并且两者之间用螺钉连接；所述弹簧橫挂钩(216)固定在锁紧气缸座(301)上，弹簧竖挂钩(217)固定在上层滑体(203)上，θ向弹簧(218)两端分别固定在弹簧橫挂钩(216)和弹簧竖挂钩(217)上，用于工件台θ向运动的跟踪与复位；所述θ向手轮架支板(219)固定在上层滑体(203)上，θ向手轮架(220)布置在θ向手轮架支板(219)上，θ向手轮(221)放置在θ向手轮架(220)内，其顶头与锁紧气缸座(301)接触，用于对工件台θ向运动的调节。