[发明专利]一种对盒精度补偿方法及补偿系统

摘要

本发明公开了一种对盒精度补偿方法及补偿系统，该对盒精度补偿方法通过根据所测阵列基板关键位置偏差值，利用历史批次测量数据实时计算出彩膜基板的黑矩阵工艺的曝光参数补偿值，并将补偿值实时反馈给制作设备，制作设备依据黑矩阵的曝光参数补偿值及时修正设备关键参数，从而制作出与阵列基板相匹配的彩膜基板。这样通过预测彩膜基板与阵列基板的对位偏差，将其优化反馈补偿至工艺过程进行消除，能够从根本上解决对位不良，提高产品品质，同时节省大量的人力消耗，而且能够满足自动化生产线的连续生产需求。

主权项

1.一种对盒精度补偿方法，其特征在于，包括：采集各批次的阵列基板和彩膜基板的标识数据及测量数据并存储到本地数据库中；其中，所述测量数据包括各批次所述阵列基板的关键位置偏差值、各批次所述彩膜基板的关键位置偏差值、各批次所述彩膜基板上黑矩阵的关键位置偏差值，以及所述阵列基板与所述彩膜基板对位后的对位精度测量值；对采集的所述测量数据进行计算，确定待制作的所述彩膜基板上黑矩阵的曝光参数补偿值并存储到所述本地数据库中；将本地数据库中对应待制作彩膜基板的所述曝光参数补偿值传输给制作所述彩膜基板的曝光设备。