[发明专利]一种微纳跨尺度高分辨力紫外压印光刻机有效
申请号: | 201610801156.9 | 申请日: | 2016-09-05 |
公开(公告)号: | CN106154745B | 公开(公告)日: | 2020-06-23 |
发明(设计)人: | 杨勇;邓钦元;胡松;赵立新;陈磊;余斯洋;唐燕;龚健文;周毅;张满 | 申请(专利权)人: | 中国科学院光电技术研究所 |
主分类号: | G03F7/00 | 分类号: | G03F7/00;G03F7/20 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 610209 *** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明涉及一种微纳跨尺度高分辨力紫外压印光刻机,属于光学微纳加工制造领域。所述紫外压印光刻机包括紫外照明系统(11),压印模块机构(12),XYZ三轴运动工件台系统(13)和电气控制系统(14),能够实现从微米图形到纳米图形的跨尺度加工,该设备充分利用气压各项同性的特性,采用“紫外固化+气压作用”实现微纳图形的精准转移,可以保证大面积微纳图形复制的均匀性,再结合该设备的光刻功能,从而可以实现从微米到纳米图形的跨尺度加工。 | ||
搜索关键词: | 一种 微纳跨 尺度 分辨力 紫外 压印 光刻 | ||
【主权项】:
一种微纳跨尺度高分辨力紫外压印光刻机,其特征在于:包括紫外照明系统(11),压印模块机构(12),XYZ三轴运动工件台系统(13)和电气控制系统(14);紫外照明系统(11),用于提供汞灯光源和平行光照明,紫外照明系统选取的是波段为365nm的紫外光,采用的照明方式为科勒照明,紫外照明系统整体均匀性保证在2%左右;压印模块机构(12),用于掩模版的切换安装,压印模块机构由掩模架机构和承片台机构两部分组成,其具备兼容性,既能加载接近式光刻的掩模版,又能加载紫外固化纳米压印的掩模;XYZ三轴运动工件台系统(13),用于工件台的高精度运动及定位,XYZ三轴运动工件台系统中,XY向的运动是通过调节手轮进行手动调节,Z向的运动是通过步进电机进行调节;电气控制系统(14),用于控制电源开关、工件台运动以及触控面板操作,电气控制系统还用于实现控制曝光时间、抽真空、加压和电机走位功能。
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