[发明专利]一种微纳跨尺度高分辨力紫外压印光刻机有效
| 申请号： | 201610801156.9 | 申请日： | 2016-09-05 |
| 公开（公告）号： | CN106154745B | 公开（公告）日： | 2020-06-23 |
| 发明（设计）人： | 杨勇;邓钦元;胡松;赵立新;陈磊;余斯洋;唐燕;龚健文;周毅;张满 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 610209 *** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 微纳跨 尺度 分辨力 紫外 压印 光刻 | ||
【说明书】：
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