[发明专利]一种X射线光谱测量和分幅成像系统有效
申请号: | 201610780888.4 | 申请日: | 2016-08-30 |
公开(公告)号: | CN106199677B | 公开(公告)日: | 2019-02-01 |
发明(设计)人: | 钱凤;张强强;杨祖华;魏来;陈勇;晏卓阳;曹磊峰;谷渝秋 | 申请(专利权)人: | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 |
主分类号: | G01T1/29 | 分类号: | G01T1/29;G01T1/36 |
代理公司: | 成都佳划信知识产权代理有限公司 51266 | 代理人: | 余小丽 |
地址: | 621900 四*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明公开了一种X射线光谱测量和分幅成像系统,包括滤片,针孔阵列板,屏蔽片,弯晶分析器,限光狭缝,光谱记录介质和成像记录介质。针孔阵列板与成像记录介质组成X射线分幅成像通道,每一个弯晶分析器、限光狭缝和一个光谱记录介质组成一个X射线光谱测量通道。该光谱测量和成像系统主要用于激光聚变、实验室天体物理等产生的等离子体X射线诊断,在同一次实验,同一个诊断孔中即可获得等离子体发射的光谱信息和具有时间分辨、空间分辨的等离子体演化图像。该系统具有测谱范围宽,能谱分辨率高,多分幅成像,应用范围广,空间体积小等优点。 | ||
搜索关键词: | 一种 射线 光谱 测量 成像 系统 | ||
【主权项】:
1.一种X射线光谱测量和分幅成像系统,其特征在于:包括滤片、针孔阵列板、屏蔽片、通道一弯晶分析器、通道二弯晶分析器、通道三弯晶分析器、通道四弯晶分析器、限光狭缝Ⅰ、限光狭缝Ⅱ、通道一光谱记录介质、通道二光谱记录介质、通道三光谱记录介质、通道四光谱记录介质、通道五成像记录介质和X射线光源,所述滤片位于所述X射线光源和屏蔽片之间,所述针孔阵列板位于所述屏蔽片上,所述屏蔽片位于所述滤片的后方,所述通道一弯晶分析器、所述通道三弯晶分析器、所述通道一光谱记录介质和所述通道三光谱记录介质位于所述限光狭缝Ⅰ的四周,所述通道二弯晶分析器、所述通道四弯晶分析器、所述通道二光谱记录介质和所述通道四光谱记录介质位于所述限光狭缝Ⅱ的四周,所述通道一、通道二、通道三和通道四均为光谱测量通道,所述通道五为成像通道,其成像记录介质位于所述针孔阵列板的后方,所述限光狭缝Ⅰ和所述限光狭缝Ⅱ分别位于所述针孔阵列板和所述通道五成像记录介质之间的两侧。
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