[发明专利]一种精确配制和实时监控氧化物刻蚀缓冲液浓度的方法在审
| 申请号： | 201610737786.4 | 申请日： | 2016-08-26 |
| 公开（公告）号： | CN106215798A | 公开（公告）日： | 2016-12-14 |
| 发明（设计）人： | 孙海平;黄石明;宋宇;刘仁中;张斌 | 申请（专利权）人： | 奥特斯维能源（太仓）有限公司 |
| 主分类号： | B01F15/00 | 分类号： | B01F15/00;B01F15/04;H01L21/02;H01L31/18 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司11332 | 代理人： | 巩克栋;侯桂丽 |
| 地址： | 215434 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及晶体硅太阳能电池化学腐蚀和清洗技术领域，尤其涉及一种精确配制和实时监控氧化物刻蚀缓冲液浓度的方法，其在清洗槽内设置有PH测试仪，在配制氧化物刻蚀缓冲液时，可通过PH测试仪反馈的PH值来控制中转槽与清洗槽之间阀门的开闭，能精确控制配比，改善并修正了纯手动配比出现的偏差；另外，在硅片清洗时，可通过PH测试仪实时监控清洗槽中氧化物刻蚀缓冲液的浓度变化，能及时发现异常，预防了由氧化物刻蚀缓冲液浓度偏移导致的硅片表面氧化层清洗不尽，有效提升和稳定了电池性能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 精确 配制 实时 监控 氧化物 刻蚀 缓冲液 浓度 方法 | ||
【主权项】：
一种精确配制和实时监控氧化物刻蚀缓冲液浓度的方法，其特征在于，包括以下步骤：a)在中转槽中加入未稀释的氧化物刻蚀缓冲液，在清洗槽中加入适量等离子水；b)打开中转槽与清洗槽之间的连通阀门，中转槽中未稀释的氧化物刻蚀缓冲液流入清洗槽中与去离子水混合稀释，同时清洗槽中的PH测试仪对稀释后的氧化物刻蚀缓冲液的PH值进行实时测量，当PH值达到设定范围值时，关闭阀门，清洗槽中形成配置好的氧化物刻蚀缓冲液；c)在清洗槽中放入硅片进行清洗；d)一段时间后，当PH测试仪检测到PH值超出其设定范围值时，则停止清洗硅片。
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