[发明专利]一种光掩膜宏观多色检查机及其使用方法有效
申请号: | 201610712197.0 | 申请日: | 2016-08-24 |
公开(公告)号: | CN106125501B | 公开(公告)日: | 2020-02-18 |
发明(设计)人: | 王轩 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G03F1/84 | 分类号: | G03F1/84 |
代理公司: | 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 | 代理人: | 孙伟峰 |
地址: | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本申请提出了一种光掩膜宏观多色检查机及其使用方法,它涉及光掩膜检测技术领域,尤其涉及一种光掩膜宏观多色检查机及其使用方法。本申请提出了一种光掩膜宏观多色检查机及其使用方法。一种光掩膜宏观多色检查机,它包括主体机构、多色光源和离子气枪;所述的主体机构包括360°旋转轴和360°旋转光掩膜托盘。使用方法:放到支撑体上;将光掩膜移动承载架滑动至360°旋转光掩膜托盘上方;利用真空气阀和气动夹将光掩膜固定;打开多色管状灯源观察;将光掩膜旋转至便于观察位置处,采用多色可移动灯源观察;启动离子气枪进行清洗。优点:达到调整视角的目的。能够及时清理。实现在不同颜色灯光下观察光掩膜表面。提高工作效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 光掩膜 宏观 多色 检查 及其 使用方法 | ||
【主权项】:
一种光掩膜宏观多色检查机,其特征在于,它包括主体机构(1)、多色光源和离子气枪(2);所述的主体机构(1)包括360°旋转轴(1‑1)和360°旋转光掩膜托盘(1‑2);所述的360°旋转光掩膜托盘(1‑2)与360°旋转轴(1‑1)连接在一起,且360°旋转光掩膜托盘(1‑2)能够随360°旋转轴(1‑1)进行360°旋转。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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