[发明专利]铜靶材的处理方法在审
| 申请号： | 201610675428.5 | 申请日： | 2016-08-15 |
| 公开（公告）号： | CN107761064A | 公开（公告）日： | 2018-03-06 |
| 发明（设计）人： | 姚力军;潘杰;相原俊夫;王学泽;李健成 | 申请（专利权）人： | 合肥江丰电子材料有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23G5/032 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司11227 | 代理人： | 高静,吴敏 |
| 地址： | 安徽省合肥市新站区东方大道与大禹路*** | 国省代码： | 安徽;34 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种铜靶材的处理方法，包括提供具有溅射面的铜靶材；采用异丙醇溶液或者丙酮溶液，对所述铜靶材溅射面进行冲洗处理。本发明在提高铜靶材溅射面洁净度，减小对操作人员或周边环境的危害性，且防止铜靶材溅射面被氧化。 | ||
| 搜索关键词： | 铜靶材 处理 方法 | ||
【主权项】：
一种铜靶材的处理方法，其特征在于，包括：提供具有溅射面的铜靶材；采用异丙醇溶液或者丙酮溶液，对所述铜靶材溅射面进行冲洗处理。
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