[发明专利]一种薄膜性能测试中的制片的方法有效
| 申请号： | 201610666186.3 | 申请日： | 2016-08-12 |
| 公开（公告）号： | CN106048553B | 公开（公告）日： | 2019-01-22 |
| 发明（设计）人： | 申昌军;田兴奎;郑董文;刘大刚;杨文娟 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/54 | 分类号： | C23C14/54 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 黄志华 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明实施例公开了一种薄膜性能测试中的制片的方法。该方法包括：在衬底基板的表面上固定至少一组面积小于所述衬底基板且各自独立的基片；将固定有所述基片的所述衬底基板置于镀膜区域；按照预设的镀膜工艺参数进行镀膜；从所述衬底基板上取下镀膜后的各所述基片以便进行薄膜性能测试。该方案中，是将面积小于衬底基板且各自独立的基片固定在衬底基板上，然后进行镀膜，无需对一整块基板进行镀膜，因而该块基板的基片的数量可供进行多次镀膜，以进行薄膜测试，提高了对基板的利用率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 薄膜 性能 测试 中的 制片 方法 | ||
【主权项】：
1.一种薄膜性能测试中的制片的方法，应用于物理气相沉积PVD镀膜工艺中，其特征在于，该方法包括：在衬底基板的表面上固定至少一组面积小于所述衬底基板且各自独立的基片；将固定有所述基片的所述衬底基板置于镀膜区域；按照预设的镀膜工艺参数进行镀膜；从所述衬底基板上取下镀膜后的各所述基片以便进行薄膜性能测试；在衬底基板的表面上固定至少一组面积小于所述衬底基板且各自独立的基片之前，该方法还包括：在所述基片上的部分区域形成有机膜层；在衬底基板的表面上固定至少一组面积小于所述衬底基板且各自独立的基片，包括：将部分区域形成有所述有机膜层的每组所述基片固定在所述衬底基板的表面上进行镀膜，以测试涂布有所述有机膜层的区域与未涂布所述有机膜层的区域的性能差异。
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