[发明专利]一种薄膜电容器的制备方法在审

专利信息
申请号: 201610617283.3 申请日: 2016-08-01
公开(公告)号: CN106158373A 公开(公告)日: 2016-11-23
发明(设计)人: 罗文彬 申请(专利权)人: 合肥佳瑞林电子技术有限公司
主分类号: H01G4/33 分类号: H01G4/33
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 230000 安徽省*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明提供了一种薄膜电容器的制备方法,涉及电子元器件制作技术领域,包括蒸镀金属层、溅射法制备电极层和升温/退火处理,在绝缘体薄膜表面蒸镀一层金属薄膜,并绕卷为薄膜卷;将薄膜卷放置在旋转绕驱架上放进真空腔室,并对真空腔室进行抽真空,采用离子溅射法制备电极层,并利用激光刻蚀获得图案化电极图层;将薄膜电容器放入电阻炉,在通入保护气体的环境下进行逐级升温处理,然后,再进行退火处理,待温度达到常温时,再将薄膜电容器从旋转绕驱架上的取出,分切成薄膜电容所需的薄膜带。本发明工艺简单、易于工业化的特点,实际生产成本较小,这种方法制备的薄膜电容器具有较高的抗氧化性和延展性,同时还具有较大电容量,满足产品轻量化的要求。
搜索关键词: 一种 薄膜 电容器 制备 方法
【主权项】:
一种薄膜电容器的制备方法,其特征在于,包括蒸镀金属层、溅射法制备电极和升温/退火处理,薄膜电容器的制备方法如下:(1)蒸镀金属层:在绝缘体薄膜表面蒸镀一层金属薄膜,并绕卷为薄膜卷;(2)溅射法制备电极层:将薄膜卷放置在旋转绕驱架上放进真空腔室,并对真空腔室进行抽真空,采用离子溅射法制备电极层,并利用激光刻蚀获得图案化电极图层;(3)升温/退火处理:将薄膜电容器放入电阻炉,在通入保护气体的环境下进行逐级升温处理,然后,再进行退火处理,待温度达到常温时,再将薄膜电容器从旋转绕驱架上的取出,分切成薄膜电容所需的薄膜带。
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