[发明专利]一种面阵探测型受激辐射损耗成像系统在审
| 申请号： | 201610594017.3 | 申请日： | 2016-07-26 |
| 公开（公告）号： | CN106124472A | 公开（公告）日： | 2016-11-16 |
| 发明（设计）人： | 魏通达;张运海;季林 | 申请（专利权）人： | 中国科学院苏州生物医学工程技术研究所 |
| 主分类号： | G01N21/64 | 分类号： | G01N21/64 |
| 代理公司： | 深圳市科进知识产权代理事务所(普通合伙) 44316 | 代理人： | 郝明琴 |
| 地址： | 215163 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 一种面阵探测型受激辐射损耗成像系统，包括用于产生激发光的激发光光源、用于产生损耗光的损耗光光源、扩束系统、涡旋相位调制板、二色镜、波片、扫描振镜、扫描透镜、筒镜、物镜、纳米位移台、长焦会聚镜头及面阵探测器，经所述扩束系统扩束后的激发光与经所述扩束系统、涡旋相位调制板进行扩束并相位调制后的损耗光进入所述二色镜反射后进入所述波片，通过所述波片的激发光与损耗光经过所述扫描振镜后，依次通过经过所述扫描透镜、筒镜和物镜后，聚焦于所述纳米位移台处的样品内部，聚焦于所述纳米位移台处的样品内部的激发光与损耗光产生的光信号通过探测光路、长焦会聚镜头汇聚于所述面阵探测器上成像。本申请操作简便、光能利用率高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 探测 型受激 辐射 损耗 成像 系统 | ||
【主权项】：
一种面阵探测型受激辐射损耗成像系统，其特征在于，包括用于产生激发光的激发光光源、用于产生损耗光的损耗光光源、扩束系统、涡旋相位调制板、二色镜、波片、扫描振镜、扫描透镜、筒镜、物镜、纳米位移台、长焦会聚镜头及面阵探测器，经所述扩束系统扩束后的激发光与经所述扩束系统、涡旋相位调制板进行扩束并相位调制后的损耗光进入所述二色镜反射后进入所述波片，通过所述波片的激发光与损耗光经过所述扫描振镜后，依次通过经过所述扫描透镜、筒镜和物镜后，聚焦于所述纳米位移台处的样品内部，聚焦于所述纳米位移台处的样品内部的激发光与损耗光产生的光信号通过所述长焦会聚镜头汇聚于所述面阵探测器上成像。
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