[发明专利]正性黑色光阻材料的制备方法及显示基板的制作方法有效
| 申请号： | 201610567439.1 | 申请日： | 2016-07-18 |
| 公开（公告）号： | CN106054531B | 公开（公告）日： | 2019-12-03 |
| 发明（设计）人： | 于承忠;陈孝贤 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/039 | 分类号： | G03F7/039;G03F7/016 |
| 代理公司： | 44265 深圳市德力知识产权代理事务所 | 代理人： | 林才桂<国际申请>=<国际公布>=<进入 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供一种正性黑色光阻材料的制备方法及显示基板的制作方法。本发明提供的正性黑色光阻材料的制备方法，制备方法简单，所制备的正性黑色光阻材料，在断差形成工艺上调试难度较小，且工艺较稳定。本发明提供的显示基板的制作方法，采用正性黑色光阻材料同时形成具有断差的黑色矩阵及隔垫物，工艺上调试难度较小，且工艺较稳定，另外，由于是通过光照射后使正性黑色光阻材料发生光分解反应生成碱可溶的物质，因此形成的断差可以朝向最大化方向进行调整，进而可以为液晶面板提供较大的液晶压缩裕量。 | ||
| 搜索关键词： | 正性黑 色光 材料 制备 方法 显示 制作方法 | ||
【主权项】：
1.一种正性黑色光阻材料的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：/n步骤10、将黑色颜料、分散剂、与第一溶剂混合，得到黑色颜料分散液；/n步骤20、将酚醛树脂加入第二溶剂中，避光条件下搅拌溶解，然后加入邻重氮茶酿化合物和正性光阻助剂，得到正性光阻胶体；/n步骤30、将得到的黑色颜料分散液均匀地分散于所述正性光阻胶体中，得到正性黑色光阻材料；/n所述邻重氮茶酿化合物为四羟基二苯甲酮-215重氮萘醌磺酸酯；/n所述步骤20中，按照1:4-6的质量比将酚醛树脂加入第二溶剂，按照在所得到的正性光阻胶体中3wt％-4wt％的质量比例加入邻重氮茶酿化合物，按照在所得到的正性光阻胶体中0.005wt％-1wt％的质量比例加入正性光阻助剂。/n
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