[发明专利]菲涅尔-达曼波带片在审
| 申请号： | 201610562981.8 | 申请日： | 2016-07-18 |
| 公开（公告）号： | CN106054295A | 公开（公告）日： | 2016-10-26 |
| 发明（设计）人： | 张军勇;叶超超;马雅尧;柯杰;孙美智;朱健强 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人： | 张泽纯;张宁展 |
| 地址： | 201800 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种菲涅尔‑达曼波带片，由透明介质、不透光金属薄膜和环状波带结构组成，在传统的菲涅尔波带片结构上引入达曼调制技术，本发明菲涅尔‑达曼波带片是一系列同心圆环结构，在平面波照明下，不需要额外的聚焦透镜，可以实现轴向多个等强度的环形阵列焦斑分布。本发明易于加工和复制，可以应用于水窗波段、光学成像和生物医学等领域。 | ||
| 搜索关键词： | 菲涅尔 波带片 | ||
【主权项】：
1.一种菲涅尔-达曼波带片，其特征在于：该波带片在透明介质(1)上镀上不透光金属薄膜(2)，在金属薄膜上刻蚀出一系列同心圆环(3)而成，所述的同心圆环的第m环半径为：rm ＝[(mλ/2)2 +mλf]1/2 ，λ是设计波长，f是参考焦距；每两个同心圆环之间刻蚀的地方为透明波带，其他地方不透明；根据在焦平面产生多环光斑需要按下列规则选取刻蚀区域，所述的m为正整数：产生2环光斑：将整个波带片分为两个区域，自内向外依次的归一化半径为0.715和1.000，在0.715倍半径以内，选取奇数环带为刻蚀区域，在0.715倍半径以外到1倍半径以内，选取偶数带为刻蚀区域；产生3环光斑：将整个波带片分为三个区域，自内向外依次的归一化半径为0.242、0.662和1.000，在0.242倍半径以内和0.662倍半径以外，选取奇数环带为刻蚀区域，其余区域，选取偶数带为刻蚀区域。
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