[发明专利]一种照明深度可调的宽波段光源超分辨表层显微成像方法有效
申请号: | 201610556663.0 | 申请日: | 2016-07-15 |
公开(公告)号: | CN105954866B | 公开(公告)日: | 2018-11-09 |
发明(设计)人: | 罗先刚;赵泽宇;王长涛;孔维杰;王彦钦;刘凯鹏;刘玲;蒲明博;高平;王炯 | 申请(专利权)人: | 中国科学院光电技术研究所 |
主分类号: | G02B21/06 | 分类号: | G02B21/06;G02B27/58 |
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地址: | 610209 *** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明公开一种照明深度可调的宽波段光源超分辨表层显微成像方法,其中,用于所述超分辨表层显微成像的照明器件从下到上依次包括:透明基底,光栅,金属/介质多层膜层;所述显微成像方法利用金属/介质多层膜层在光栅的激发下产生的深亚波长体等离子体(BPPs)模式,作为显微成像时的照明场,可在可见光及紫外光波段实现待测样品5nm‑300nm的表层超分辨成像。该方法有望应用于活细胞中细胞质膜的实时在线显微成像,应用广泛。本发明不仅可对待测样品进行纵向照明深度的调节,也可横向提高图像的空间分辨率,大大提高了样品表层成像质量。 | ||
搜索关键词: | 一种 照明 深度 可调 波段 光源 分辨 表层 显微 成像 方法 | ||
【主权项】:
1.一种照明深度可调的宽波段光源超分辨表层显微成像方法,其特征在于,用于所述超分辨表层显微成像方法的照明器件包括:从下到上沿光线入射方向依次为:透明基底,激发光栅,金属/介质多层膜层,显微成像样品位于多层膜层之上,其中:所述超分辨表层显微成像方法包括以下工作方式A,采用单色和小发散角光源照明,发散半角<10°,从基底一侧,中心光线沿特定倾斜角度照明激发光栅结构,不改变光源波长、激发光栅和多层膜层结构,仅仅调整中心光束照明角度,最大角度调节范围0°~90°,实现连续的照明深度调节,照明深度连续调节范围为:5~300nm;或者所述超分辨表层显微成像方法包括以下工作方式C,采用宽波带小发散角光源,或者多种波长激光,光源波长带宽<400nm,或者激光波长差异<400nm,发散半角<10°,从基底一侧,中心光线沿特定倾斜角度照明激发光栅结构,实现纳米尺度的表层照明成像,照明深度通过改变入射角度能够调节,调节范围30~300nm。
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