[发明专利]一种磁控溅射真空镀膜设备在审
| 申请号： | 201610556466.9 | 申请日： | 2016-07-12 |
| 公开（公告）号： | CN106011765A | 公开（公告）日： | 2016-10-12 |
| 发明（设计）人： | 潘振强;朱惠钦 | 申请（专利权）人： | 广东振华科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 广州新诺专利商标事务所有限公司44100 | 代理人： | 曹爱红 |
| 地址： | 526020 广东省肇庆市端*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明属于镀膜机产品技术领域，具体公开一种磁控溅射真空镀膜设备，包括带有抽气口的真空镀膜室以及控制电源，所述真空镀膜室侧壁上设有若干组直立型平面孪生磁控靶，所述平面孪生磁控靶的周围设有开合式挡板装置，所述真空镀膜室内设有立式的平面离子源。该真空镀膜设备，工件薄膜沉积均匀，性能稳定，极大提高工件的镀膜效率和效果，此外，设备简单实用，制作成本低。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 磁控溅射 真空镀膜 设备 | ||
【主权项】：
一种磁控溅射真空镀膜设备，包括带有抽气口的真空镀膜室以及控制电源，其特征在于：所述真空镀膜室侧壁上设有若干组直立型平面孪生磁控靶，所述平面孪生磁控靶的的周围设有开合式挡板装置，所述真空镀膜室内设有立式的平面离子源。
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