[发明专利]频率片的腐蚀方法

摘要

本发明公开了一种频率片的腐蚀方法，首先利用高效清洗液对频率片表面洁净处理，去除脂类、微生物类污渍，为腐蚀打下良好基础；再设计性质温和的腐蚀体系，结合旋转腐蚀工艺，有效对频率片进行腐蚀，腐蚀速度提高到0.3μm/min，远高于现有0.18μm/min，腐蚀后的频率片频率偏差范围从±50KHz下降到±10KHz。

主权项

一种频率片的腐蚀方法，包括以下步骤：（1）将频率片置入清洗液中，清洗10～15分钟；然后置入酒精中浸泡1～2分钟，红外烘干，得到清洗后的频率片；所述清洗液由萘酚化合物、叔丁基锂、异构十三醇聚氧乙烯醚、聚丙烯酸钠、十二水磷酸氢二钠、2‑巯基苯并噻唑、水组成；（2）将过氧化钠加入水中，混匀后加入醋酸；搅拌3分钟后再加入离子液体；搅拌15～20分钟后再加入偶氮二异庚腈，搅拌3～5分钟后再加入酒石酸钾钠，搅拌4～6分钟后再加入多孔硅球，搅拌得到腐蚀体系；所述多孔硅球的平均粒径为620纳米；所述离子液体的化学结构式如下：（3）将腐蚀体系加入腐蚀桶中，腐蚀体系的高度为腐蚀桶高度的55～65%，然后加入频率片，旋转腐蚀体系；3～3.5分钟后加入絮凝液，继续旋转腐蚀体系，得到腐蚀后的频率片，即完成频率片的腐蚀；所述絮凝液由丙烯酸、双(2,3‑环氧基环戊基)醚、2‑丙烯酰胺基‑2‑甲基丙磺酸、十六烷基三甲基氯化铵、水混合后，于70℃反应1～1.5小时得到。