[发明专利]一种工业级超长碳纳米管的阵列连续生长设备

摘要

本发明公开了一种工业级超长碳纳米管阵列的连续生长设备，包括连续出料装置、催化剂布料装置、炉体、隔离密封罩和旋转炉底，隔离密封罩和旋转炉底形成密封生长空间，炉体内隔离密封罩顶端设置有炉盖，旋转炉体设置在隔离密封罩的下端，旋转炉体的上端设置有碳纳米管生长基底，碳纳米管生长基底的顶端设置有多层生长基底，催化剂布料装置设置在多层生长基底下方，连续出料装置设置在多层生长基底的上方，隔离密封罩内外壁之间的隔墙将炉腔分隔成催化剂布料预热室、催化剂还原活化室、CNTS均热生长室和出料过渡室。本装置可以进行连续生产，充分节省传统生产方式升温、布料、气体置换、降温、再气体置换、取料等工序，节省大量时间和资源。

主权项

一种工业级超长碳纳米管的阵列连续生长设备，包括连续出料装置（4）、催化剂布料装置（5）、炉体（18）、隔离密封罩（21）和旋转炉底（25），其特征在于，所述的隔离密封罩（21）和旋转炉底（25）形成密封生长空间，所述的隔离密封罩设置在炉体（18）内，所述的隔离密封罩（21）顶端设置有炉盖（20），所述的炉体（18）、炉盖（20）、隔离密封罩（21）之间设置有隔热保温层（19），所述的旋转炉底（25）设置在隔离密封罩（21）的下端，所述旋转炉底（25）的上端设置有位于隔离密封罩（21）内的碳纳米管生长基底（24），且旋转炉底（25）与碳纳米管生长基底（24）之间也设置有隔热保温层（19），所述碳纳米管生长基底（24）的顶端设置有多层生长基底（23），所述的催化剂布料装置（5）设置在多层生长基底（23）下方，且催化剂布料装置（5）的一端伸出炉体（18），所述的连续出料装置（4）设置在多层生长基底（23）的上方，且连续出料装置（4）的一端伸出炉体（18）；所述的隔离密封罩（21）内外壁之间设置有四个隔墙（9），四个隔墙（9）将炉腔分隔成四个连通的区室，四个区室分别为催化剂布料预热室（6）、催化剂还原活化室（7）、CNTS均热生长室（10）和出料过渡室（11）。