[发明专利]旋转式磁控靶及卧式磁控溅射镀膜设备

摘要

本发明公开一种旋转式磁控靶及卧式磁控溅射镀膜设备，旋转式磁控靶包括靶材、磁芯和磁铁，磁芯设于靶材中部，磁芯外周设有至少一个磁铁，磁铁朝向靶材的一端呈锥形。卧式磁控溅射镀膜设备包括依次连接的前预抽室、前粗抽室、前精抽室、前缓冲室、镀膜室、后缓冲室、后精抽室、后粗抽室和后预抽室，镀膜室为一个或多个，各镀膜室中设有旋转式磁控靶，旋转式磁控靶位于工件上方。本旋转式磁控靶通过将磁铁末端设计为尖端，增强了磁力线在靶材表面的分布密度，可加大溅射出来的靶材粒子数量，从而提高了工件表面的镀膜效率。将其应用于卧式磁控溅射镀膜设备中，可有效提高工件的镀膜效率，缩短整个工艺线的生产周期，从而提高生产效率。

主权项

1.一种旋转式磁控靶，其特征在于，包括靶材、磁芯和磁铁，磁芯设于靶材中部，磁芯外周设有至少一个磁铁，磁铁朝向靶材的一端呈锥形；所述靶材为中空的圆柱状结构，磁芯和磁铁均位于靶材中部的空间内；所述磁芯为中空的圆柱状结构，磁芯外周设有固定架，磁铁安装于固定架上；所述靶材和磁芯同心设置，磁铁位于靶材和磁芯之间形成的环形空间内；在靶材的同一径向截面中，磁芯外周设有三个磁铁，三个磁铁并排安装于固定架上。