[发明专利]堆栈式溅射镀膜装置及其镀膜方法

摘要

本发明涉及光学薄膜技术领域，尤其是一种堆栈式溅射镀膜装置及其镀膜方法，其特征在于：所述真空镀膜室的一侧设置有搬送室，所述搬送室的内腔与所述真空镀膜室的内腔相连通，两者内腔之间的连通处为搬送口，所述进、出片室分别与所述搬送室相连接，所述搬送室的内腔与所述进、出片室的内腔相连通，所述搬送室与所述进、出片室内腔之间的连通处分别为进片口和出片口，通过搬送室与进、出片室的配合，实现所述基片的装卸。本发明的优点是：提高了基片搬运效率；有利于在真空镀膜室中设置多个溅射源，提升了镀膜效率；结构紧凑、占地面积小、运营成本低。

主权项

1.一种堆栈式溅射镀膜装置，用于对基片进行镀膜，所述镀膜装置至少包括真空镀膜室、进片室和出片室，所述真空镀膜室的内腔为所述基片的镀膜空间，所述进、出片室分别用于进、出片，其特征在于：所述真空镀膜室的一侧设置有搬送室，所述搬送室的内腔与所述真空镀膜室的内腔相连通，两者内腔之间的连通处为搬送口，在所述搬送室内设置有搬送机构，所述搬送机构实现所述基片在所述搬送室中的输送并通过所述搬送口实现所述搬送室与所述真空镀膜室之间的基片交换；所述进、出片室分别与所述搬送室相连接，所述搬送室的内腔与所述进、出片室的内腔相连通，所述搬送室与所述进、出片室内腔之间的连通处分别为进片口和出片口，在所述进、出片室内分别设置有进片机构和出片机构，所述进、出片机构分别实现所述基片在所述进、出片室中的输送并通过所述进、出片口实现所述进、出片室与所述搬送室之间的基片交换。