[发明专利]一种针对傅立叶叠层显微成像技术的自适应去噪方法有效
申请号: | 201610474615.7 | 申请日: | 2016-06-24 |
公开(公告)号: | CN106204466B | 公开(公告)日: | 2019-06-07 |
发明(设计)人: | 陈钱;孙佳嵩;左超;顾国华;张玉珍;李加基;张佳琳 | 申请(专利权)人: | 南京理工大学 |
主分类号: | G06T5/00 | 分类号: | G06T5/00;G06T5/50 |
代理公司: | 南京理工大学专利中心 32203 | 代理人: | 唐代盛 |
地址: | 210094 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: |
本发明公开了一种针对傅立叶叠层显微成像技术的自适应去噪方法,首先在光源全部关闭的情况下拍摄一幅图像作为背景光图像Ib,然后依次点亮每个LED单元并拍摄到一组照明光图像 |
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搜索关键词: | 一种 针对 傅立叶 显微 成像 技术 自适应 方法 | ||
【主权项】:
1.一种针对傅立叶叠层显微成像技术的自适应去噪方法,其特征在于步骤如下:步骤一,在光源全部关闭的情况下拍摄一幅图像作为背景光图像Ib,然后依次点亮每个LED单元并拍摄到一组照明光图像
步骤二,将所有照明光图像
减去背景光图像Ib,得到一组无背景光图像
为第k幅处理后得到的无背景光图像;步骤三,对无背景光图像
中的所有暗场图像按照阈值Tk进行去噪,并从零开始逐步提高阈值Tk,直到暗场图像中非零像素个数小于图像总像素个数的一半,最后得到一组暗场无噪声图像
步骤四:在傅立叶叠层显微成像迭代过程中,计算由初始解产生的图像
与暗场无噪声图像
两幅图像的均值之比G;如果0.5<G<2,则使用图像
进行更新,否则不更新图像
所对应的频谱。
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