[发明专利]延长聚合物元件寿命的抗等离子体的原子层沉积的涂层在审
申请号: | 201610471962.4 | 申请日: | 2016-06-24 |
公开(公告)号: | CN106298411A | 公开(公告)日: | 2017-01-04 |
发明(设计)人: | 许临;纳什·W·安德森;约翰·多尔蒂;托马斯·R·史蒂文森;约翰·迈克尔·克恩斯 | 申请(专利权)人: | 朗姆研究公司 |
主分类号: | H01J37/20 | 分类号: | H01J37/20;H01J37/32;C23C16/40;C23C16/455 |
代理公司: | 上海胜康律师事务所31263 | 代理人: | 樊英如,杨学春 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及延长聚合物元件寿命的抗等离子体的原子层沉积的涂层。根据本公开内容,提供了几个发明,其包括用于在等离子体处理室中使用的聚合物材料上沉积抗等离子的涂层的设备和方法。在具体的示例中,这样的涂层可在静电卡盘的局部上制成,其中聚合物材料是围绕粘合剂的垫圈,所述粘合剂位于卡盘基座和陶瓷顶板之间。 | ||
搜索关键词: | 延长 聚合物 元件 寿命 等离子体 原子 沉积 涂层 | ||
【主权项】:
用于等离子体处理室的静电卡盘,其包括:基座,所述基座包含铝或铝合金;用于保持晶片的陶瓷顶板,其被结合到所述基座上;聚合物材料,所述聚合物材料位于所述基座和所述陶瓷顶板之间,所述聚合物材料具有至少一个暴露的部分,以及在所述至少一个暴露的部分上的抗等离子体的原子层沉积的涂层。
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