[发明专利]具有至少一个斜面的硅基部件及其制造方法有效
| 申请号： | 201610465128.4 | 申请日： | 2016-06-23 |
| 公开（公告）号： | CN106276779B | 公开（公告）日： | 2019-04-16 |
| 发明（设计）人： | A·甘德尔曼 | 申请（专利权）人： | 尼瓦洛克斯-法尔股份有限公司 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00;B81B1/00 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 慈戬;吴鹏 |
| 地址： | 瑞士勒*** | 国省代码： | 瑞士;CH |
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| 摘要： | 本发明涉及具有至少一个斜面的硅基部件，所述硅基部件是由这样的方法形成的：所述方法结合了至少一个倾斜侧壁蚀刻步骤和竖直侧壁“博世”蚀刻，由此使得由微加工硅基片形成的部件能够有美学改进和改善的机械强度。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 至少 一个 斜面 基部 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于制造微机械部件(101、111)的方法(11)，所述微机械部件由硅基材料制成，所述方法包括以下步骤：a)取用硅基基体(40)；b)在基体(40)的水平部分上形成掩模(43)，所述掩模穿刺有孔(45)；c)在蚀刻腔室内、在基体(40)的部分厚度中，从掩模(43)的孔(45)处蚀刻出预先确定的斜壁(46)，从而形成微机械部件(101、111)的上斜面(106)；d)在蚀刻腔室内、在基体(40)的至少部分厚度中，从在步骤c)中形成的蚀刻体(49)的底部处蚀刻出大体竖直的壁(47)，从而在上斜面(106)的下方形成微机械部件(101、111)的外壁(105)；e)从基体(40)和掩模(43)脱出微机械部件(101、111)，其中，步骤c)是通过在蚀刻腔室内混合蚀刻气体和钝化气体从而形成预先确定的斜壁(46)来实现的，在步骤c)中，持续的蚀刻气体流和钝化气体流被脉冲化以增强底层处的钝化。
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