[发明专利]Al-Al2O3太阳能薄膜表面反射材料的制备方法

摘要

本发明涉及一种Al‑Al2O3高反射率太阳能薄膜表面反射材料的制备方法(1)基片清洗无水乙醇中超声波清洗10‑20分钟，去离子水清洗，清洗液中浸泡10‑20分钟，去离子水冲洗，吹干备用；(2)Al薄膜的制备采用直流磁控溅射法，所用Al靶尺寸为Ф60×4mm，纯度为99.99％，溅射气体为高纯氩，本底真空度为6‑6.2×10‑4Pa，工作压力为0.5‑0.8Pa，靶基距固定在70‑80mm，氩的流量为20‑25sccm；Al的溅射功率是55‑65W；溅射速率为10‑15nm/min；(3)Al2O3薄膜的制备采用射频磁控溅射法制备，Al2O3靶材尺寸为Ф60×4mm，纯度为99.99％，溅射气体为高纯氩，本底真空度为6‑6.2×10‑4Pa，工作压力为1.5‑2.5Pa，靶基距固定在70‑80mm，氩的流量为35‑45sccm；Al2O3的溅射功率是100‑150W，溅射速率为3‑8nm/min。本发明反射膜反射率高，耐摩擦、耐老化，并具自清洁功能。

主权项

一种Al‑Al2O3太阳能薄膜表面反射材料的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：(1)基片的清洗：将基片放入无水乙醇中超声波清洗10‑20分钟，然后用去离子水多次清洗，再将基片放入清洗液中浸泡10‑20分钟，取出后用去离子水反复冲洗，最后吹干并立即保存于真空干燥箱中备用；(2)Al薄膜的制备：采用直流磁控溅射法，所用Al靶尺寸为Ф60×4mm，纯度为99.99％，溅射气体为高纯氩，本底真空度为6‑6.2×10‑4Pa，工作压力设为0.5‑0.8Pa，靶基距固定在70‑80mm，氩的流量为20‑25sccm；Al的溅射功率是55‑65W；溅射速率为10‑15nm/min；(3)Al2O3薄膜的制备：采用射频磁控溅射法制备，Al2O3靶材尺寸为Ф60×4mm，纯度为99.99％，溅射气体为高纯氩，本底真空度为6‑6.2×10‑4Pa，工作压力设为1.5‑2.5Pa，靶基距固定在70‑80mm，氩的流量为35‑45sccm；Al2O3的溅射功率是100‑150W，溅射速率为3‑8nm/min。