[发明专利]一种利用微透镜阵列进行扫描的激光成像光学系统有效

专利信息
申请号: 201610388407.5 申请日: 2016-06-02
公开(公告)号: CN105842847B 公开(公告)日: 2018-08-31
发明(设计)人: 李宁;涂远江;周奂斌;桂宏凡;杨长英;周辉;马柯 申请(专利权)人: 湖北三江航天万峰科技发展有限公司
主分类号: G02B27/00 分类号: G02B27/00
代理公司: 武汉东喻专利代理事务所(普通合伙) 42224 代理人: 宋业斌
地址: 432000 *** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种利用微透镜阵列进行扫描的激光成像光学系统,包括扫描激光器、分光镜、凸微透镜阵列、凹微透镜阵列、第一聚集透镜组、第二聚集透镜组和激光探测器;扫描激光器发出的扫描激光束依次透过分光镜、凸微透镜阵列、凹微透镜阵列和第一聚集透镜组后聚集照射在探测目标上,探测目标漫反射回的激光再依次透过第一聚集透镜组、凹微透镜阵列和凸微透镜阵列后并通过分光镜反射至所述第二聚集透镜组,再聚集到激光探测器像面上。本发明采用双通道共光路,系统布局紧凑,具有小型化、轻量化的特点,且只需微米级的位移就能达到较大角度的扫描视场。
搜索关键词: 一种 利用 透镜 阵列 进行 扫描 激光 成像 光学系统
【主权项】:
1.一种利用微透镜阵列进行扫描的激光成像光学系统,其特征在于,包括扫描激光器(1)、分光镜(2)、凸微透镜阵列(3)、凹微透镜阵列(4)、第一聚集透镜组(5)、第二聚集透镜组(6)和激光探测器(7);所述扫描激光器(1)发出的扫描激光束依次透过分光镜(2)、所述凸微透镜阵列(3)、凹微透镜阵列(4)和第一聚集透镜组(5)后聚集照射在探测目标上,所述探测目标漫反射回的激光再依次透过所述第一聚集透镜组(5)、所述凹微透镜阵列(4)和所述凸微透镜阵列(3)后并通过所述分光镜(2)反射至所述第二聚集透镜组(6),再聚集到所述激光探测器(7)像面上;工作时,所述凹微透镜阵列(4)根据探测目标的位置可移动。
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